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半導體用高濃度臭氧水與藥液的效果比較

閱讀:220發布時間:2023-4-27

半導體用高濃度臭氧水與藥液的效果比較
使用臭氧水 使用藥液
①僅次于氟素的強氧化能力
 去除金屬,有機物強力有效
①使用鹽酸,硫酸,雙氧水等具有強酸性的藥液,并且藥液具有100℃左右的高溫,操作時要十分注意。
②臭氧水處理后形成氧化膜,(0.8nm左右)→晶片表面具有親水性     →晶片表面粒子數少②將氨氣/雙氧水與上述①強酸一起使用的情況較多(為了除去粒子)
③臭氧成分通過自然蒸發,或者通過使用簡易臭氧分解設備, 從而使工廠排水變為可能。
→臭氧水易蒸發,立刻變成純水
→可以使用工廠廢水管道排放臭氧水
→純水可循環利用
③藥液使用后,使用工廠的廢液處理設備中和處理。
→ 藥液不可循環使用
④消耗材料價格低
  →基本上只需支付氧氣費用和電費
④藥液成本高。(以使用浴槽式設備清洗為例計算)
?半導體(清洗)
?FPD,液晶(清洗)
?MEMS,傳感器(清潔)
?硬盤(清洗)
?太陽能電池(清潔)
?醫療(洗手,純凈水管道清洗)
?食品(洗手,消毒,除臭)
半導體用高濃度臭氧水裝置
半導體用高濃度臭氧水裝置



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