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光學元件面型測量儀

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更新時間:2023-02-16 08:39:01瀏覽次數:487

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產品簡介

Kaleo MultiWave 光學元件面型測量儀是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統,用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀,測量光學元件的表面面形、透過波差等參數。

詳細介紹

Kaleo MultiWave 是一臺多波長工作的光學元件面形測試系統,用于替代昂貴、低效、操作復雜的干涉儀,測量光學元件的表面面形、透過波差等參數。

Kaleo MultiWave 通過單次測量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質量參數尊崇ISO 10110標準。表面不規則,粗糙度以及波紋亦可測試。

Kaleo MultiWave的多波長測試功能可以在光學元件設計的工作波長進行測試,從而對光學元件基底、鍍膜獲得完整的評價。儀器具備和傳統干涉儀同等的精度,同時具備更大的動態范圍以測試復雜面形的光學元件。測試以雙程模式工作,兼容透射與反射測量。

多波長干涉儀:

同一機臺,多個波長

標配:625nm - 780nm - 1050nm

可選:UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外

高動態范圍:

> 20um PV

高度畸變波前測試

高精度:

精度與干涉儀同等

高重復度,低噪聲

高性價比的干涉儀解決方案

規范:

遵從ISO 5725 標準

兼容MetroPro 格式

兼容 ISO 10110 格式

用途:

表面面形測試

鍍膜(AR,介質膜,金屬膜測試......

窗片,干涉濾光片測試

透鏡,非平面鏡測試

應用:

光學元件研發制造

濾光片及窗片制造

空間及防務

汽車工業

激光器及其應用

光學元件面型測量儀KALEO MultiWave技術指標:

光路結構

雙通路

標準配置波長

625, 780, 1050nm

可選波長

400 - 1100nmUV, IR

有效口徑

130mm

可重復性 (ISO 5725)

< 5nm rms

可再造性 (ISO 5725)

<7nm rms

動態范圍 (失焦), RWE

10um PV

動態范圍 (失焦), TWE

200nm rms

精度 (RWE)

<80nm rms

精度 (TWE)

<20nm rms

光學元件面型測量儀KALEO MultiWave測試實例:

Fizeau干涉儀測試結果的比較

NBP-780濾光片測試。二者測量RWE的偏差小于40nm P-V

非球面鏡3-D面形

單次測量,無需空白透鏡。可通過扣除理想曲面得知面形殘余誤差,從而獲知非球面鏡的加工質量。

產線設備監控

通過對塑料、樹脂模壓光學元件的直接測試,實時獲知加工效果,對模具狀態、工件調整精度等作出實時評價。


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