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楊女士
市場部經理
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詳細介紹
高級氧化技術設備
安力斯UV/O3/H2O2高級氧化系統技術路線：
1.臭氧預氧化反應段
2.高級氧化反應段
3.深度高級氧化反應段
安力斯UV/O3/H2O2氧化系統設計：
1.UV光催化模塊
2. H2O2間及投加系統
3.臭氧發生及投加系統
4.高級氧化反應池
5.在線監測系統
安力斯UV/O3/H2O2氧化系統閉環控制：
1.臭氧控制系統：臭氧在線濃度監測、水中臭氧濃度監測、尾氣殘余臭氧濃度監測系統
2.UV控制系統：根據臭氧、雙氧水投加濃度，實時調節系統UV強度
3. H2O2控制系統：通過計量泵及流量調配系統實現對雙氧水的精確投加，避免殘余H2O2對出水COD的干擾。
(Advanced Oxidation Processes,簡稱 AOPs)是20世紀80年代開始形成的處理有毒污染物技術，它的特點是通過反應產生羥基自由基（·OH），該自由基具有*的氧化性、通過自由基反應能夠將有機污染物有效地分解，甚至*地轉化為無害無機物，如二氧化碳和水等。
高級氧化技術設備的分類
光化學氧化法
由于反應條件溫和、氧化能力強光化學氧化法近年來迅速發展，但由于反應條件的限制，光化學法處理有機物時會產生多種芳香族有機中間體，致使有機物降解不夠*，這成為了光化學氧化需要克服的問題。光化學氧化法包括光激發氧化法(如03/UV)和光催化氧化法(如Ti02/UV)。
光激發氧化法主要以O3、H2O2、O2和空氣作為氧化劑，在光輻射作用下產生·OH； 光催化氧化法則是在反應溶液中加入一定量的半導體催化劑，使其在紫外光的照射下產 生·OH，兩者都是通過·OH的強氧化作用對有機污染物進行處理。
催化濕式氧化法
催化濕式氧化法(CWAO)是指在高溫(123℃～320℃)、高壓(0.5～10MPa)和催化劑(氧化物、貴金屬等)存在的條件下，將污水中的有機污染物和NH3-N氧化分解成CO2、N2和H2O等無害物質的方法。
聲化學氧化
聲化學氧化中主要是超聲波的利用。超聲波法用于垃圾滲濾液的處理主要有兩個方面：一是利用頻率在15kHz～1MHz的聲波，在微小的區域內瞬間高溫高壓下產生的氧化劑(如·OH)去除難降解有機物。另外一種是超聲波吹脫，主要用于廢水中高濃度的難降解有機物的處理。
臭氧氧化法
臭氧氧化法主要通過直接反應和間接反應兩種途徑得以實現。其中直接反應是指臭氧與有機物直接發生反應，這種方式具有較強的選擇性，一般是進攻具有雙鍵的有機物，通常對不飽和脂肪烴和芳香烴類化合物較有效；間接反應是指臭氧分解產生·OH，通過·OH與有機物進行氧化反應，這種方式不具有選擇性。
臭氧氧化法雖然具有較強的脫色和去除有機污染物的能力，但該方法的運行費用較高，對有機物的氧化具有選擇性，在低劑量和短時間內不能*礦化污染物，且分解生成的中間產物會阻止臭氧的氧化進程。可見臭氧氧化法用于垃圾滲濾液的處理仍存在很大的局限性。
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