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深入了解紫外線光解技術在半導體水處理中的應用
紫外線光解技術被廣泛應用于各種領域，其中就包括超純水的制備。在超純水的生產過程中，微粒子、電阻率和TOC等任何一個指標稍有差異，都可能導致半導體元件生產的合格率下降。對于超純水處理，紫外線光解技術具有以下優點。
1.殺菌作用：紫外線具有很強的殺菌能力，能夠有效殺滅超純水中的細菌和病毒，降低微生物的數量，保證水質的純凈度；
2.臭氧消除：在半導體生產中，臭氧經常被用來消毒和凈化水。然而，水中殘留的臭氧可能會影響半導體制備下一道工序。紫外線光解技術可以有效地分解水中的臭氧，避免其對設備造成影響；
3.降低總有機碳(TOC)： 紫外線光解技術能夠將有機物質分解成小分子，最終產物為二氧化碳和水，從而降低水的TOC含量；
4.余氯降解：在半導體生產過程中，為了避免對產品產生不利影響，去除水中的殘余氯是必要的預處理，紫外線光解技術能有效地去除水中的殘余氯；
5.安裝簡便：紫外線光解設備結構簡單，安裝方便，不需要特別的管道和設備在超純水制備過程中。
需要注意的是，當前半導體行業超純水制備工藝存在設計、施工安裝及運維方面等痛點，安力斯立足技術創新，針對行業技術難點攻克。用持續的研發投入與產品迭代，使安力斯擁有了超純水TOC光解技術。通過提升超純水水質指標，優化水循環再生解決方案，幫助提升產品良品率和水資源利用效率，以“雙維度”助力半導體企業降本增效。
安力斯-超純水TOC降解產品
總的來說，紫外線光解技術在半導體超純水處理中起到了非常重要的作用。它提高了產水水質、降低了微生物數量、降解了有機物和余氯，為半導體領域的生產提供了重要的技術及設備支持。
