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滄州德望環保設備有限公司

解析惡臭廢氣處理設備的技藝原理

時間:2022-7-16閱讀:112
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惡臭的技藝原理:

  1、光催化氧化是在外界可見光的作用下發作催化作用,光催化氧化反響是以半導體及空氣爲催化劑,以光爲能量,將無機物降解爲CO2和H2O。本公司采用的半導體是如今反響功率的納米TiO2光催化劑,經過特別處理后運用,抵達志向作用。

  2、在光催化氧化反響中,經過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上發作電子空穴對,與表面吸附的水份(H2O)和氧氣(O2)反響生成氧化性很活波的羥基自在基(OH-)和超氧離子自在基(O2-、0-)。可以把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類無機物、無機物在光催化氧化的作用下恢復成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它   物質,一同具有除臭、、的成效,由于在光催化氧化反響進程中無任何添加劑,所以不會發作二次凈化。

  3、光催化氧化的特點:

  (1)光催化氧化適宜在常溫下將廢臭氣體氧化成   的物質,適宜處理、氣量大、波動性強的有毒氣體。

  (2)有用污染:經過光催化氧化可間接將空氣中的廢臭氣體氧化成   的物質,不留任何二次凈化。

(3)綠色動力:光催化氧化運用人工紫外線燈管發作的真空波紫外光作爲動力來活化光催化劑,驅動氧化—恢復反響,并且光催化劑在反響進程中并不消耗,運用空氣中的氧作爲氧化劑,有用地降解有毒廢臭氣體成爲光催化浪費動力的特點。

  (4)氧化性強:半導體光催化具有氧化性強的特點,對臭氧難以氧化的某些無機物如、四氯化炭、六氯苯、都能有用地加以分化,所以對難以降解的無機物具有特別含義,光催化的有用氧化劑是羥基自在基(OH-)和超氧離子自在基(O2-、0-),其氧化性高于罕見的臭氧、雙氧水、、次氯酸等。

  (5)廣譜性:光催化氧化對從烴到羧酸的種類很多無機物都有用,即使對原子無機物如鹵代烴、染料、含氮無機物、無機磷殺蟲劑也有很好的去除作用,只需經過肯定時辰的反響可抵達污染。

  (6)壽數長:在實際上,光催化劑的壽數是有限長的,無需交換。


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