日本filmetrics對準自動膜厚測量系統F60
F60自動測繪膜厚測量系統是F50的機型，具有缺口檢測、自動基線功能和互鎖機制。
只需將樣品放在載物臺上，然后單擊測量按鈕即可自動執行對齊、基線和膜厚映射。
主要特點
F50機型，帶缺口檢測、自動基線功能和互鎖機制
自動測量對準、基線和薄膜厚度映射
主要應用
半導體
| 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
產品陣容
模型F60-tF60-t-UVF60-t-近紅外F60-t-EXR測量波長范圍膜厚測量范圍準確性
| 380 – 1050nm | 190 – 1100nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm |
| 20nm – 70μm | 5nm – 40μm | 100nm – 250μm | 20nm – 250μm |
| ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | |
| 2納米 | 1納米 | 3納米 | 2納米 |
測量示例
可以測量硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等。只需設置樣本，對齊、參考等將自動完成。
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