一、半導體顯象管用超純水設備概述

    半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

二、半導體顯象管用超純水設備應用領域

     1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

　　 2、超純材料和超純化學試劑；

　　 3、實驗室和中試車間；

　　 4、汽車、家電表面拋光處理；

　　 5、光電產品；

　　 6、其他高科技精微產品；

三、工藝流

1、一級反滲透 混床（出水2---15mΩ.cm）

原水箱—原水泵—多介質過濾器—活性炭過濾器—軟水器→保安過濾器→高壓泵—反滲透主機→純水箱—純水泵→陰陽離子交換混床→微孔過濾器—儲水罐→純水輸送泵→用水點

2、一級反滲透 EDI系統（出水5---15mΩ.cm）

原水箱---原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→高壓泵---反滲透主機→純水箱—EDI系統→儲水罐→純水輸送泵→用水點

3、二級反滲透 EDI系統（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→保安過濾器→一級高壓泵—一級反滲透主機→PH調節—二級級高壓泵—二級反滲透—純水箱—脫氣裝置—微孔過濾器→EDI系統→拋光混床系統—儲水罐→純水輸送泵→用水點

四、電子超純水設備特點

     設備通常由全自動多介質過濾器，全自動活性碳過濾器，全自動軟化器、精密過濾器等構成前期預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。