等離子體發射質譜儀ICP-MS2000

產品優勢
進樣系統：敞開式進樣系統結構，使用外部安裝的霧化器，自我定位，無需調整。可配置250位全自動進樣器，以太通信進口，定位精度小于500μm。
炬位調整系統：等離子體位置XYZ三維由計算機控制全自動精確調節，調節幅度精確至步進0.1mm。
*等離子體屏蔽技術：ICP-MS2000、ICP-MS2000B采用*的等離子體屏蔽技術，*提高儀器的靈敏度，改善低質量元素的檢出限。保證冷等離子體模式等應用，無需使用碰撞/反應氣，即可使K、Na、Ca、Mg、Fe等一電離元素檢出限低至ng.L-1。
ICP-MS2000E采用*新的變頻等離子體技術，采用推挽互補技術消除傳統等離子體中存在的電勢差，消除等離子體二次放電現象，并產生較低、較窄的離子能量擴散，*提高儀器靈敏度。穩健的變頻電源系統保證儀器可運行多種模式（如常規模式、碰撞反應模式、冷等離子體模式），并且在同一方法中允許運行多種模式，節約大量分析時間及方便研究。
活動閥門：*的活動接口門結構，無需泄真空即可裝卸采樣錐和截取錐，維護方便。
離子透鏡系統：配有高效率六極桿離子導向系統，在全質量范圍內獲得*佳的離子傳輸效率，全自動的離子聚焦調諧過程，真空室內的透鏡使用非對稱安裝，方便拆裝定位。離子透鏡包括提取透鏡和偏轉透鏡，采用二次離軸設計，避免中性粒子和電子進入質量分析器，降低背景；離子透鏡、六級桿和四級桿均為免拆洗維護設計，*地減少維護工作量。
碰撞反應池：配置六極桿碰撞反應池，采用（H2+He）混合氣既可以KED模式消除ArCl、CaCl對As的干擾；同時在無需切換氣體等繁瑣操作的情況下即可消除Ar、ArH、ArO等對K、Ca、Fe的干擾；碰撞反應池池體部分由一個獨立的渦輪分子泵進行抽真空，有效的縮短了池體的換氣時間和穩定時間。

標配兩路碰撞反應氣氣路及其控制器；除可使用（H2+He）之外，還可根據實際情況選用（H2+NH3）、O2等碰撞反應氣。
檢測器：ETP雙模式檢測器，分成兩部分分列打拿極電子倍增器，無需數/模切換。
新型真空腔體結構：真空部分包括三級真空。由兩個獨立工作的機械泵分別為接口處和渦輪分子泵提供初始真空，保證大氣壓到高真空的緩降，有效保證真空腔內部件不受污染。腔體內無任何導線連接，各個組件采用不對稱安裝和插入式安裝。
斷電保護系統：在意外停電發生時，安全自行關機，而不損壞儀器系統。
軟件：全自動分析功能（啟動關閉儀器 ,炬位調整, 等離子體參數, 離子透鏡參數，檢測器參數等）；可根據客戶實際需求定制應用分析包，一鍵調用而無需費時費力地開發新方法，提高分析效率。
實時數據顯示和實時報告顯示；支持分析數據的離線處理，提供模塊化的報告，用戶可根據實際需求
icp-MS，電感耦合等離子體質譜儀
等離子體發射質譜儀應用領域
1、環境領域：飲用水、海水、環境水資源食品、衛生防疫、商檢等。
2、半導體領域：高純金屬，高純試劑，Si 晶片的超痕量雜質，光刻膠等。
3、醫藥及生理分析領域：頭發、全血、血清、尿樣、生物組織等醫藥研究，特別是全血鉛的測定。
4、核工業領域：核燃料的放射性同位素的分析，初級冷卻水的污染分析等。
5、其他領域：如化工，石化、地質等。