詳細介紹
主要特點:
1. 新型電子光學系統設計達到掃描電鏡高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。
2. 用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
3. 采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
應用領域:
1. 半導體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學
上海百賀儀器科技有限公司 |
參考價 | 面議 |
更新時間:2024-04-07 14:22:26瀏覽次數:122
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主要特點:
1. 新型電子光學系統設計達到掃描電鏡高分辨率:二次電子0.4nm(30KV),STEM 0.34nm(30KV)。
2. 用改良的高真空性能和的電子束穩定性來實現高效率截面觀察。
3. 采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。
應用領域:
1. 半導體器件
2. 高分子材料
3. 納米材料
4. 生命科學