日立熱場發射掃描電鏡SU70型采用高分辨率半內透鏡技術和熱場發射電子槍，為探索納米世界打開了一扇新的大門。為了滿足在同一臺儀器上進行綜合>析(需要大探針電流)和高分辨率觀察的需求，日立開發了SU-70。

一、日立熱場發射掃描電鏡SU70型的特點
1.100nA的大探針電流
開發的肖特基電子槍保證100nA的大探針電流
2. 通用的分析型樣品室
預留了多種接口，可以安裝以下附件進行
分析：EDX,WDX,EBSP,STEM,BSE, CL,低溫臺，樣品室CCD
3. 分析模式(FF模式)
觀察磁性樣品及EBSP、WDS分析
4. 高分辨率 1.0nm/15kV，1.6nm/1kV(減速模s)，高分辨率的獲得利用了日立
已被檢驗的半內透鏡技術。
5. ExB技術用于控制SE/BSE信號檢測，實現消除放電現象及信號混合
6. 電子束減速技術保證了超低電壓的高分辨成像，用于淺表面觀察

二、日立熱場發射掃描s鏡SU70型的技術規格
1. 二次電子圖象分辨率
1.0nm(15KV.WD=4.0mm)
6nm(1KV.WD=1.5mm,減速模式)
2.5nm(1KV.WD=1.5mm)
2. 放大倍數
低放大倍數模式20-2,000x
高放大倍數模式100-800,000x
3. 電子光學
電子槍 ZrO/W 肖特基電子槍
電流 1pA-100nA
加速電壓 0.5-30KV(標準模式)
著陸電壓 0.1-2.0KV(減速模式)
透鏡系統 3級電磁線圈系統
物鏡光闌 4孔光闌,真空外選擇和細調
4. 樣品臺
樣品臺控制 5軸馬達控制
移動范圍
X 0-110mm
Y 0-110mm
z 1.5-40mm
T -5O-+700
R 360O
樣品尺寸 直徑150mm(標準)；() 直徑200mm(可選)
5. 探測器
二次電子探測器
背散射電子探測器(可選)
STEM探測器(可選)
法拉第杯(可選)
X射線能譜儀(可選)
X射線波譜儀(可選)
EBSP探測器(可選)
陰極熒光探測器(可選)