半導體計量的兩種互補技術。
WLI: 白光干涉測量是一種光學技術，它可以對非常寬的區域進行成像，速度非常快，滿足高吞吐量測量。
AFM: 原子力顯微鏡是一種掃描探針技術，即使對透明材料也能提供確的納米級分辨率測量。

WLI和AFM在視野,分辨率和速度方面結合。

WLI應用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度
的化學機械拋光計量和監測
封裝
全掩模的熱點和缺陷檢測
晶圓級計量

AFM應用需要更大的區域和更高的吞吐量
In-line 晶圓計量
長行程CMP輪廓表征
亞埃級表面粗糙度控制
晶圓檢驗與分析

NX-Hybrid WLI 功能
Park WLI系統
Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由電動過濾器變換器 支持）
可用物鏡放大倍數：2.5X 、10X、20X、50X、100X
兩個物鏡可由電動線性換鏡器自動更換

WLI光學干涉測量
掃描 Mirau 物鏡高度時，由干涉引起的光強變化可以計算每個像素處的樣品表面高度
白光干涉測量 (WLI) 和相移干涉測量 (PSI) 是兩種常用的表面表征技術

NX-Hybrid WLI 應用
熱點檢測和審查
熱點快速調查和熱點缺陷自動審查
可以通過比較參考和目標樣品區域的圖像來檢測圖案結構的熱點
WLI 的高速“熱點檢測”可以快速定位缺陷位置，以進行高分辨率 AFM 審查