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沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間:2020-01-26 15:56:09瀏覽次數(shù):296次
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加工定制 | 否 |
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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)機(jī)器工作過程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無人看守工作。
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),xia盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無人看守工作。
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:不需要 | |||
主要特點(diǎn) | 1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良,操作簡單,適用范圍廣。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源:220V 50Hz 2、載物盤:Ø150mm 3、桃型孔:Ø25.4mm 4、磨拋盤:Ø250mm 5、載物盤轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無級調(diào)速) 6、磨拋盤轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,zui小增量10) 7、壓力:0.5kg-20kg(zui小增量0.5kg) | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:780mm×590mm×750mm;重量:100kg |
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