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低溫等離子設(shè)備

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更新時(shí)間：2022-09-10 11:41:55瀏覽次數(shù)：277次

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產(chǎn)品簡介

型號(hào)：HPDL-15處理風(fēng)量：15000m3/h外形尺寸：350013501000mm進(jìn)出口尺寸：1000760mm電場數(shù)量：12個(gè)高壓電源數(shù)量：3套功率（KW）：1.5

詳細(xì)介紹

低溫等離子設(shè)備工藝概述

/ Process Overview

低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的。

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV～10eV，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。
電場的設(shè)計(jì)使廢氣粒子的運(yùn)動(dòng)速度較低，一般在零點(diǎn)幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷，帶電粒子在電場中會(huì)受到電場力（庫侖力）的作用，其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽極上。因此凈化率非常高，而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。

低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)

/ Product parameters

型號(hào)	處理風(fēng)量（m3/h）	外形尺寸（長×寬×高）mm	進(jìn)出口尺寸（寬×高）mm	電場數(shù)量（個(gè)）	高壓電源數(shù)量（套）	功率（KW）	交流電壓（V）	設(shè)備重量（T）	風(fēng)阻（Pa）
HPDL-05	5000	1300×1350×1000	1000×760	4	1	0.5	220	0.30	≦100
HPDL-10	10000	2400×1350×1000	1000×760	8	2	1	220	0.55	≦100
HPDL-15	15000	3500×1350×1000	1000×760	12	3	1.5	220	0.85	≦100
HPDL-20	20000	2400×1350×1800	1000×1600	16	4	2	220	1.15	≦100
HPDL-30	30000	3500×1350×1800	1000×1600	24	6	3	220	1.60	≦200
HPDL-40	40000	4600×1350×1800	1000×1600	32	8	4	220	2.15	≦200
HPDL-50	50000	5700×1350×1800	1000×1600	40	10	5	220	2.70	≦200
HPDL-60	60000	3500×2700×1800	2080×1600	48	12	6	220	3.2	≦200
HPDL-80	80000	4600×2700×1800	2080×1600	64	16	8	220	4.4	≦250
HPDL-90	90000	3500×2700×2640	2080×2440	72	18	9	220	5.0	≦400
HPDL-100	100000	5700×2700×1800	2080×1600	80	20	10	220	5.50	≦300