半導體行業清洗用超純水設備

　我公司生產的在設計上，采用成熟、可靠、*、自動化程度高的二級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流*可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　我們公司專業生產二級反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，尤其在電控系統PLC方面在水處理行業技術都是比較成熟，我們也有做過很多各行業的水處理設備，這方面我們有豐富的經驗。我們公司做出來的設備質量比他們都有優勢，在國內具有一---定的市場jing爭力。該產品由于具備性能好、國外同類產品價格、供貨及時、售后服務方便快捷等諸多優勢。在LED、LCD、半導體、光電光學企業的脫鹽水和超純水裝置，得到了業界的廣泛贊譽，歡迎廣大客戶前來參觀考察。

　部分案例：

　東莞市福地電子材料有限公司25噸/小時二級反滲透+EDI+精混床超純水設備，出水水質：18 MΩ·cm。運營起始日期：2009年12月;

　浙江省宸億電子有限公司20噸/小時二級反滲透+EDI+精混床18M超純水設備，運營起始日期：2009年5月；

　東莞市高輝光電有限公司10噸/小時二級反滲透+EDI+精混床18M超純水設備，運營起始日期：2006年12月；

　東莞市矽德半導體有限公司25噸/小時二級反滲透+EDI+精混床18M超純水設備，運營起始日期：2006年6月；

　深圳市東寶光電有限公司3噸/小時二級反滲透+EDI+精混床18M超純水設備，運營起始日期：2006年12月；

　比亞迪股份有限公司15噸/小時二級反滲透+EDI+精混床超純水設備出水達到≥17 MΩ·cm，運營起始日期：2010年7月。

　黃山市中顯微電子有限公司20噸/小時二級反滲透+EDI+精混床超純水設備出水達到≥17 MΩ·cm，運營起始日期：2011年9月。

　我相信只有您實地考察，看了我們的廠房及工程設備，才會相信我們的實力，我們隨時歡迎您的到來。耐心解答您的咨詢，咨詢我們前，請您告訴我們幾個參數：

　1.原水水源（自來水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自來水，其它的水源，需要提供水質報告，水源不一樣，處理工藝不一樣，費用就有很大的差別;

　2.配置（需要高---端配置還是一般配置，就是指水泵有國產的還是進口的，反滲透膜用海德能的還是陶氏的，材質用不銹鋼/玻璃鋼/碳鋼...）

　3.控制（全自動PLC/半自動/手動)

　4.出水水質要達到什么標準，電阻率要達到多少，有什么用途，如果不知道，也沒關系，告訴我們您是做什么產品的，我們做給您設計出完---全符合您生產要求的方案。

　我們能夠提供的服務

　1、原水水質分析

　2、水處理工藝技術方案與工程設計

　3、水處理項目投資報告、可行性分析

　4、水處理系統安裝調試、技術施工服務

　5、反滲透設備維護、清洗、保養及售后服務

　6、技術培訓

　7、工程施工管理及技術監督，跟蹤服務 

　8、反滲透膜的清洗、多種零件的更改

　設備的售后服務

　1、負責所供設備的指導安裝調試。

　2、提供需方設備維護人員培訓。

　3、對所售設備提供一年保修（易損易耗件除外）、終生維修。

　4、為用戶建立計算機管理檔案，定期回訪。

　5、設立顧客滿意電話，隨時接受用戶咨詢。

　6、分布在各地的售后服務人員將即時解決用戶使用中產生的問題。

半導體行業清洗用超純水設備介紹

一、半導體行業用超純水水質標準：

　我公司電子級超純水設備出水水質完---全符合ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

二、對水質的要求：

　新興的半導體行業、光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

　三、應用場合：

　1.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　2.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

　3.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

　4.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

　5.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

　6.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

　7.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　8.集成電路生產中高純水清洗硅片

　9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　10.高品質顯像管、螢光粉生產

　11.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

　12.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

　13.實驗室和中試車間

　14.汽車、家電表面拋光處理

　15.光電產品、其他高科技精微產品

四、典型半導體行業清洗用超純水設備制備工藝：

　1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺---菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)

　2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺---菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)

　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第---二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺---菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)

　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺---菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺---菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)

五、半導體行業清洗用超純水設備特點

　為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

我公司專業生產半導體行業用超純水設備、光電行業用水制水設備（高純水、超純水設備），可根據你的需要定制各種型號。我們更專業你才能更放心 ，我們誠信服務讓你滿意100 ?！?Q:312601169

半導體行業清洗用超純水設備