thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF

超高溫晶圓退火爐 最高2000°C

多氣氛晶圓退火設備，可用于各種
工藝環(huán)境下的小規(guī)模生產(chǎn)

C/C 復合材料、SiC3 涂層、TiC3 涂層加熱器最高溫度 2000°C確保

安全性和可操作性 僅晶圓退火 從超高溫多氣氛爐的新材料和材料的開發(fā)，半導體和電子元件的研發(fā)等，可廣泛用于小規(guī)模生產(chǎn)應用。

特征

三種類型的爐子加熱器/絕緣材料擴大了碳爐的應用范圍。

• C/C復合加熱器

• SiC3（碳化硅）涂層加熱器

• TiC3（碳化鈦）涂層加熱器

最高工作溫度 2000°C

• C/C復合加熱器

• TiC3涂層加熱器

• 碳化硅3涂層加熱器

PLC 半自動操作（真空/吹掃→排氣）

• 通過觸摸屏 HMI 操作

• *全自動操作也是可能的（面議）

爐膛加熱范圍

• Φ4寸 ? φ8寸

• 單晶圓或多級盒（5張）批量類型

很多選擇

• 自動爐壓調節(jié)（APC控制）

• 用于測量爐中樣品溫度的附加熱電偶

• 額外的前視口+高溫計，用于爐子測量

• 坩堝旋轉

• 全自動控制

• 通信功能（使用溫度控制功能）或SECS/GEM通信

thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF