半導體行業超純水設備是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。在半導體加工過程中需要使用水進行處理，該水質的要求非常高，不能含有任何離子雜質。半導體行業用超純水設備采用*的制水技術，有效去除水中雜質，保證設備的出水水質。屬高科技綠色環保技術。EDI超純水設備備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫藥、電子、電力、化工等行業得到推廣。

半導體行業超純水設備主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進,電介質離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精制的目的。

半導體行業用超純水設備工藝特點：

無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作，保護了環境。

連續、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。

降低了安裝的要求：EDI超純水系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它采用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。模塊化的設計，使EDI在生產工作時能方便維護。

半導體行業用超純水設備工藝流程：

1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

2、預處理-一級反滲透-加藥裝置(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。

半導體超純水設備水質標準要求:

半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。

半導體行業用超純水設備應用領域：

1、電廠化學水處理

2、電子、半導體、精密機械行業超純水

3、食品、飲料、飲用水的制備

4、小型純水站，團體飲用純水

5、精細化工、精尖學科用水

6、其他行業所需的高純水制備

7、制藥工業工藝用水

8、海水、苦咸水的淡化