芯片產業具備周期性，近期，基于5G大規模建設等周期性因素，以及18年工作報告把集成電路產業發展放在實體經濟發展*等持續性政策影響，芯片產業將迎來一波快速成長期。對于芯片水處理市場而言，首先需要關注技術要素，技術標準均在提升，不僅2014年開始實施的電子級水國標要求提高以及新增了鐵、鉛等指標，而且準備實施的新電子工業污水國標要求同樣提高以及新增總鉻等污染物指標，水處理企業將面臨越來越大的技術挑戰。

　　現有的電子工業用超純水設備主要用于單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線框架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水，產水水質電導阻率<18ΜΩ.cm，且在水處理過程中有二次污染，出水水質不穩定。

　　萊特萊德采用反滲透技術與EDI裝置相結合的工藝制備超純水，靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，保證出水硼離子能夠穩定≤5ppt。可有效達到國標《電子級水》的水質標準，系統集成度高，雙操作系統，可實現自動控制，系統更加穩定性。

　　萊特萊德擁有多項超純水用膜核心技術，為用戶提供一種智能、能耗低、運行穩定的超純水制備系統。設備可連續，穩定地生產高純度的超純水，日常保養維護簡單方便，設備耐用，壽命長。