產品信息和價格僅供參考，詳情可留言咨詢。

　　半導體廢水回用設備 中水處理技術

　　科技的不斷創新讓人們對于電子設備的要求也在不斷增加，導致半導體廢水排放量逐年增加。我國水資源匱乏嚴重，如何正確處理半導體廢水、提高水資源利用率成為了業內不斷研究的課題。

　　半導體行業廢水可分為含氟廢水、含磷廢水、有機廢水、研磨廢水、氨氮廢水及酸堿廢水。含氟廢水污染物主要為氟離子，主要來源于來自于自芯片制造過程中的擴散工序及化學機械研磨工序，在對硅片及相關器皿的清洗過程中也多次用到氫氟酸。含磷廢水主要來源于生產工程中的鋁刻蝕液。作為清洗劑，有機溶劑普遍使用在制造封裝的各個環節上，有機廢水由此產生，有機廢水主要來源于IPA溶劑、顯影液、TO刻蝕液、酸洗塔酸堿廢水、酸洗塔有機廢水。

　　半導體廢水回用設備 中水處理技術

　　為了降低半導體行業的用水成本、減少對環境的污染，半導體廢水的高效處理意義重大。傳統的生化處理方法由于活性污泥濃度較低，處理效果往往達不到預期。近年來，膜分離系統在廢水處理中的應用越來越廣泛，Neterfo極限分離系統是專門為“三高廢水"開發的一套膜深度處理及回用系統，采用錯流PON防污染技術、POM寬通道高架橋旁路技術等技術手段，達到高回收率、低能耗的處理效果，突破了傳統中水系統回收率50%的瓶頸，綜合回收率可達90%以上。Neterfo極限分離內置AI芯片，實現智能調節，及時分析處理海量信息，更精確、動態地管理系統運行，隨時優化運行狀態。