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昆山國華電子專業生產等離子表面處理設備 |
國華GH-100D等離子體表面清洗系統標準配置表 |
機臺名稱 | 等離子體表面清洗系統 |
機臺型號 | GH-100D |
機臺用途 | 2種氣體通入，不同組合用于不同工藝制造，可用于高頻板PTFE類、軟硬結合板、多層軟板等除膠渣等制造工藝，柔性板化金前后清洗、打線邦定前清洗等處理，SMT前清洗等 |
技術參數 | 備注 |
1 | 機臺整機規格 | 960mm(W)× 1030mm(D)× 1720mm(H) | |
2 | 真空室規格 | 435mm(W)× 540mm(H)× 425mm(D) | |
3 | 腔體特點 | 4個區域，彈夾式放置 | |
4 | 真空泵系統 | 韓國優成 | |
5 | PLC自動控制系統硬件 | OMRON/SIEMENS-PLC及擴展模塊(D/A轉換、A/D轉換、溫度控制） | 日本歐姆龍/西門子 |
6 | 人機工控系統 | 觸摸屏式全中文界面 | |
7 | 溫度控制系統 | 日本歐姆龍OMRON溫度傳感模塊，PID閉環控制，溫度可控 | |
8 | 真空測定系統 | 皮拉尼電阻式真空計 | 日本愛發科 |
9 | 真空供氣系統 | Ф6品牌軟管+不銹鋼鎖套管路 | 進口優質不銹鋼 |
10 | 真空排氣系統 | 全不銹鋼管路+波紋管 | 進口優質不銹鋼 |
11 | 破真空系統 | 倒計時自動開合啟動 | |
12 | 氣體控制系統 | 電磁閥控制 | 日本CKD |
13 | 氣體計量系統 | 2路精確質量流量控制計：MFC | SevenStar |
14 | 等離子發生器 | 額定功率：0-500W，13.56MHZ全自動匹配（國華自主研發） | |
15 | 其他組件 | 國內外元器件 | |
16 | 機臺總重 | 約500kg | |
17 | 額定功率 | 額定功率 4KW | |
18 | 機臺供電 | AC-380V-50Hz，三相五線 | |
19 | 單次處理時間 | 10-60分鐘不等（根據產品特征，時間設定不同） | |
20 | 工作真空度 | 0.15～0.3Torr （可根據要求設定，可恒定真空度） | |
21 | 真空泵極限壓力 | 5pa以下 | |
22 | 抽真空時間 | 抽到工作真空≤180秒 | |
23 | 破真空時間 | ≤60秒 | |
24 | 供氣方式 | 電磁閥式 | |
25 | 流量計調節范圍 | 2路獨立MFC 0-300sccm（毫升/分鐘）, | |
26 | 操作方式 | 人工取放工件，一鍵啟動自動控制 | |
昆山國華電子專業生產等離子表面處理設備，國華電子等離子體清洗機等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面.以達到清洗目的
國華電子等離子體清洗機的結構主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵。就以下三個部分做一個陳述:
一、控制單元:
目前國內使用的等離子清洗機，包括國外進口的，控制單元主要分為半自動控制、全自動控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制四種方式。
而控制單元又分為兩個大的部分:1)電源部分:主要電源頻率有三種，分別是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要電源匹配器的，而2.45GHz又稱為微波等離子，主要的功能作用，前面已經提到了，這里就不一一介紹了。2)系統控制單元:分三種，按鈕控制(半自動、全自動)、電腦控制、PLC控制(液晶觸摸屏控制)。
二、真空腔體:
真空腔體主要是分為兩種材質的:1)不銹鋼真空腔體，2)石英腔體。
三、真空泵:
真空泵分為兩種:1)干泵、2)油泵
一、清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題; 三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法。這在高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性;
四、采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得*的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產率高的特點;
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統的濕法清洗工藝;
七、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產場地很容易保持清潔衛生;
八、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗;
九、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的。
