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漯河市二氧化氯發生器結構說明

機理

二氧化氯具殺菌、漂白、除臭、消毒、保鮮的功能。

機理主要是氧化,二氧化氯分子的電子結構呈不飽和狀態,外層共19個電子，具強烈的氧化 力,主要是對富電子(或供電子)的原子基團(如含巰基的酶和硫化物，氯化物)進行攻擊，強行掠奪電子,使之 成為失去活性和改變性質的物質，從而達到其。

1、殺菌機理

二氧化氯對細胞壁較強的吸附和穿透能力，放出原子氧將細胞內的含巰基的酶氧化起到殺菌。

2、漂白

二氧化氯的漂白是通過放出原子氧和產生次氯酸鹽而達到分解色素的。用他做漂白劑代替氯酸鹽等，可阻止并避免與纖維發生氧化而降低纖維強度，因而效果更面。

3、除臭

二氧化氯的除臭是因為它能與異味物質(如H2S、-SOH、-NH2等)發生脫水反應并使異味物質迅速氧化轉化為其他物質。而且它能阻止蛋氨酸分解成乙烯,也能破壞已形成的乙烯,從而延緩腐爛，同時殺死微生物而不與脂肪 酸反應并不破壞食品結構。

使用前的準備

原料的配制與添加:

(1)溶液的配制和添加：將固體與水按1:2(重量比)比例在化料器中進行溶解，

（見化料器使用說明書）攪拌至固體完溶解，加入原料罐即可（必須經過過濾除去殘渣等）。

(2)鹽酸的添加: 將鹽酸加入到鹽酸儲罐中。

注意：嚴禁兩個原料罐混用。原料罐內外通。

5.2 設備

5.2.1.啟動

打開動力水閥門，將水壓力調至穩定狀態，使水射器正常工作。開啟控制器，設定溫度℃。

控制器的啟動參見控制器說明書。

5.2.3.關機

關機時，應提前40 分鐘關閉計量泵及加熱電源，停止加料，水射器繼續一段時間，將設備中的二氧化氯充分吸收，以防止滯后反應所產生的體外溢，40 分鐘后關閉動力水管路上的閥門，水射器停止工作，設備即關機。

5.3 設備維護

1.設備清洗（適合1000克以上主機）

設備長時間后，反應器中沉淀物會增加，影響設備產率，應定期進行清洗。一般半年清

洗一次。設備主機背側污口，可進行清洗污。清洗時，在水射器正常工作狀態下，從設備后部沖洗口(設備工作狀態下，沖洗口閥門為關閉)抽入清水，清水將隨反應器內的液體一同被水射器抽走；當反應室液位管液體顏色變淺后，停下動力水泵，打開污閥，將殘液凈，反復幾次，直至清洗干凈為止。

5.3.2.清理Y型過濾器（適用于大型PE儲罐）

原料罐出口閥門中帶過濾網的過濾器，應定期進行清洗。清洗時，先關閉閥門，然后將球閥外絲頭卸下，清理其中過濾網上的雜質。

5.3.3.計量泵的維護

計量泵一定要注意防水，否則會燒毀計量泵控制單元。原料罐加完料后，檢查輸料管中是否

體或雜質進入，如，應及時掉。應經常檢查計量泵滲漏，如滲漏，應及時維修。

5.4.控制器異常現象及處理

見控制器使用說明書。K1、K3、T28FB、或PLC.

二氧化氯發生器與其他消毒劑相比的優點

二氧化氯在飲用水消毒上，不僅，持續時間長，致癌物質產生，其滅藻效果也相當好，而且還可除鐵、除錳、脫臭、提高水質的新鮮度，在污水處理中，可直接替代次氯酸鈉發生器，氯投加裝置，電解法二氯發生器及其它一些消殺設備。

　　由于該設備投資少、低，使用等點，進速得到了推廣，目前已用于飲用水，游泳池水、污水、工業循環水等領域。

　　與其它常用消毒劑相比，其殺菌效果是：臭氧>二氧化氯>氯>氯氨；其穩定性是：氯氨>二氧化氯>氯>臭氧。綜合而言，二氧化氯性能比較好。

　　對三鹵甲烷(THMS)的控制：三鹵甲烷(THMS)是指氯消毒后在水中產生的LV仿和其他氯化和溴化機衍生物，對動物致癌。美(USAPA)規定引水中三鹵甲烷總量應低于0.1mg/L。我生活飲用水衛生規準規定飲用水中CH4含量不得過60ug/L。二氧化氯用于飲用水消毒可降低LV仿97%，一溴二氯甲烷降低95%——98%；四氯化碳可降低89%。

　　對味和溴的控制：地表水常常含酚類，當用LV處理時，會產生氯酚，導致水中含味和溴。二氧化氯與酚的產物是苯醌，沒氯酚產生。在堿性條件下，二氧化氯能把金屬鐵和錳離子迅速氧化形成不溶性的化合物而沉淀。

　　對藻類的控制：二氧化氯發生器對葉綠素的吡咯環一定的親和性，與之反應，生成嗅味的產物。氧化葉綠素后，植物的新陳代謝終止，使新的蛋白質的合成中斷。另外，藻類產生味的物質經二氧化氯氧化后也可以嗅味。鑒于二氧化氯在水處理中的諸多優點，建設部《城市供水行業2000年技術進步發展規劃》中使用二氧化氯為飲用水消毒劑。

　　物理性質：二氧化氯的分子式為CLO2，是一種隨溫度升高顏色由黃綠色到橙色的體，具與LV相似的刺激性味。沸點11℃，凝固點-59℃，臨界點153℃。純二氧化氯的液體與體性質不穩定，在空中二氧化氯濃度過10%時就很高的爆炸性。易溶于水，常溫下(25℃)、1.1×104pa分壓下，溶解度為8克/升。

　　化學性質：二氧化氯的化學性質非常活潑，一般在酸性條件下具很強的氧化性，僅次于臭氧。

　　光解反應：二氧化氯發生器對光較敏感，見光生分解，即使在黑暗條件下每天仍2-10%的離解率。且日常貯存時應避光保存，并采取現場發生(激活)，現場使用。

二氧化氯是一種易爆炸的強氧化性體，在和使用時必須盡量用稀元素體進行稀釋，同時需要避免光照、震動或加熱。因此，二氧化氯的制備方法一直是科學家尋求解決的問題。常用的二氧化氯制備方法主要集中為三種。

1.與濃鹽酸反應法(Kestiog法)

歐洲一些主要采用(NaClO3)氧化濃鹽酸的制備方法，化學反應方程式為:2NaClO3+4HCl(濃)=2NaCl+Cl2↑+2ClO2↑+2H2O。此法的缺點主要是同時產生了大量的，不僅產率低，

而且產品難以分離，同時很可能造成環境污染。

2.亞與反應法

我的科學家經過科學探索，發現一種優于歐洲的制備方法，將經干燥空稀釋的通入填充固體亞(NaClO2)的反應柱內制得。化學反應方程式為:2NaClO2+Cl2=2NaCl+2ClO2。此法的點是安性好，沒產生毒副產品。

3.草酸還原法

科學家又研究出的一種新的制備方法，在酸性溶液中用草酸(H2C2O4)還原，化學反應方程式為:H2C2O4+2NaClO3+H2SO4 == Na2SO4+2CO2↑+2ClO2↑+2H2O和2KClO3+H2C2O4=K2CO3+CO2↑+2ClO2↑+H2O此法的大點是由于反應過程中生成的二氧化碳的稀釋，大大提高了及儲存、運輸的安性。

4.亞與鹽酸反應法

制取二氧化氯置常用的制備高純二氧化氯的方法，化學反應方程式為:5NaClO2+4HCl=4ClO2+5NaCl+2H2O，此工藝產物中純度一般高達95%以上，需要現場制備現場使用。運用高耐腐材料制作的二氧化氯發生器能夠滿足。

5.二氧化硫反應法

優點是可以利用二氧化硫減少空污染，化學反應方程式為:

2KClO3+SO2=2ClO2+K2SO4、

6.與亞硫酸鈉反應法

實驗室常用(NaClO3)和亞硫酸鈉(Na2SO3)用硫酸酸化，加熱制備二氧化氯，化學反應方程式為:2NaClO3+Na2SO3+H2SO4==△==2ClO2↑+2Na2SO4+H2O

漯河市二氧化氯發生器結構說明

  二氧化氯發生器主機、反應釜、鹽酸儲藥罐、儲藥罐、化料器、化料泵、鹽酸計量泵、計量泵、水射器、室內管閥、（缺水報警系統、余氯分析儀、PLC控制柜、觸摸屏---自動配置）

1.設備清洗：設備長時間后，反應器中沉淀物會增加，影響設備產率或原料轉化率，應定期進行清洗。

①設備狀態下的清洗

一般視設備的時間每月沖洗 1-4 次不等，沖洗時，關閉計量泵，在水射器正常工作狀態下，從清洗口加入清水，清水將隨反應器內的液體一同被水射器抽走，沖洗時間應大于5 分鐘，沖洗完成后開機。

②設備整機沖洗

一般半年整機清洗一次。設備主機背側污閥，可進行清洗污。清洗時，打開安閥，往里注入清水進行清洗，當出口液體流出時，關閉出口，當液體流出時關閉，直至加滿水，浸泡 5 分鐘，打開污閥，將殘液凈，反復幾次，直至清洗干凈為止。

③加熱水套清洗

關閉加熱系統，并關閉電源，打開水套污閥，將水套水出，然后關閉污閥，從加水口加滿清水，再出，反復幾次，直至清洗干凈為止。如果水的硬度太高，除了加大清洗頻率外，必要情況下請做除垢處理。

產品比較

1)二氧化氯消毒的優缺點

優點:具強氧化，不產生機氯化物(THMs) ;投放簡單方便;不受pH影響;經二氧化氯處理后，水中余氯穩定，防止再污染的能力強;因氧化強，可除去水中的色和味，不與酚形成氯酚臭;對鐵、錳的除去效果較氯強。較Cl2;缺點:ClO2、管理一定的危險性;通常就地，就地使用;制取設備復雜;操作管理要求高。

2)次消毒優缺點

與Cl 2殺菌效果相同，能效殺菌。優點:毒，、管理危險性小。缺點:產生具致癌、致畸的機氯化物 (THMs) ;使水的pH值升高。

3)臭氧消毒的優缺點

殺菌和殺滅病毒的效果均很好。優點:強氧化能力，用量少，接觸時間短;pH值及氨的影響小;不影響水的感官性狀，同時還除臭、色、鐵、錳、酚等多種;除水中溴離子外，不產生機氯化物(THMs)。缺點:基建投資較大;高;水中O3不穩定，控制和檢測O3均需一定的技術，缺乏剩余消毒劑，出水剩余O3，因此需用二消毒劑。

4)液lv消毒的優缺點

能效殺菌，但殺滅病毒效果差。優點:處理水量較大時，單位水體的處理較低;水體氯消毒后能長時間地保持一定數量的余氯，從而具持續消毒能力;工藝簡單，技術成熟;綜合成本低，操作管理簡單。缺點:產生具致癌、致畸的機氯化物 (THMs) ，須采取相應的措施防止其產生;受pH值及氨的影響大。

5)紫外線的優缺點

消毒效果好，但對懸浮物濃度要求。優點:害的殘余物質;臭味;，易實現自動化;管理和維修低。缺點:電耗大;紫外燈管與石英套管需定期更換;對處理水的水質要求較高;后續殺菌。

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