UV光解凈化設(shè)備具有適應(yīng)性強(qiáng)‘運(yùn)行成本低、設(shè)備占地面積小等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站、餐廚垃圾處理廠、飼料廠、印染廠、噴涂廠等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化。
UV光解凈化設(shè)備工作原理
UV光解凈化工藝?yán)?nbsp; UV紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體（工業(yè)廢氣）分子鍵，裂解惡臭氣體物質(zhì)如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。
UV光解凈化設(shè)備其具體工作機(jī)理如下：
1、利用 高臭氧185nm UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時(shí)，臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的 效果。
2、利用 253.4nm UV光束(簡(jiǎn)稱(chēng)254nm)裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），使之變成極不穩(wěn)定的C鍵、-0H、O離子。這里受有機(jī)廢氣的成份、濃度不同，所需要的紫外線(xiàn)能量也不同。
3、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用 UV（紫外線(xiàn)）光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
4、 利用 254nmUV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)， 達(dá)到脫臭及滅細(xì)菌的目的。
5、利用 高臭氧185nmUV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時(shí)，臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的 效果。
6、利用 離子體內(nèi)富含電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)的分子、電子與離子，有很高的反應(yīng)活性，可以使通常條件下難以進(jìn)行或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分迅速。正氧離子具有很強(qiáng)的氧化性，能在極短的時(shí)間內(nèi)氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氫等。
UV光解凈化設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：
1、適用于汽車(chē)及機(jī)械制造業(yè)、涂裝線(xiàn)及烘房有機(jī)廢氣處理；電子制造業(yè)、印刷線(xiàn)路板（PCB）有機(jī)廢氣處理；電氣制造業(yè)、漆包線(xiàn)絕緣有機(jī)廢氣處理；輕工業(yè)、制鞋涂膠有機(jī)廢氣處理；印刷彩印有機(jī)廢氣處理。
2、適用于冶金鋼鐵業(yè)、破素電極生產(chǎn)有機(jī)廢氣處理；化學(xué)工業(yè)、化學(xué)合成工藝（ABs合成）有機(jī)廢氣處理。
3、適用于石油煉化工藝有機(jī)廢氣等各種產(chǎn)生有機(jī)廢氣場(chǎng)所。
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