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寶雞志普有色金屬加工有限公司
靶材:在濺射沉積技術中用做陰極的材料。該陰極材料在帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。濺射靶材 鉬旋轉靶材 定制金屬靶材廠家
靶材:在濺射沉積技術中用做陰極的材料。該陰極材料在帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。濺射靶材 鉬旋轉靶材 定制金屬靶材廠家
鍍膜靶材:通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產生不同的殺傷破壞效應。濺射靶材 鉬旋轉靶材 定制金屬靶材廠家
分類:
按照制造工藝分類,可以分為粉末冶金靶材,熔煉鑄造靶材,等離子噴涂靶材。
按照使用形式可分為蒸發材料、電弧靶材、濺射靶材。
按照材質可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材等。
產品名稱:鉬靶材
純度:W≥99.95%
屬性:密度10.2g/cm3,熔點2610℃,沸點5560℃
規格:定制
圓形靶:直徑>360mmX厚度>1mm
板靶:長<300mmX寬<300mmX厚度>1mm
旋轉靶:直徑<360mmX厚度>2mm
包裝方式:木箱包裝
應用:廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業,適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。本公司根據客戶需求,提供各種材質,各種規格金屬靶材,可來圖加工、來料加工。
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