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痕量低濃度氮氧化物分析儀是用于分析氣體組成成分的儀表,屬于流程分析儀表中的一種,是化學(xué)參數(shù)測(cè)量?jī)x表,在很多工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中,氣體分析儀表的地位與壓力儀表、流量?jī)x表等物理參數(shù)測(cè)量?jī)x表是不相上下的,能起到控制生產(chǎn)環(huán)境、減少安全事故等重要作用;除通常用來(lái)分析氫氣、氨氣、二氧化碳、二氧化硫和低濃度可燃性氣體含量。
痕量低濃度氮氧化物分析儀通過(guò)分析激光被氣體的選擇性吸收來(lái)獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于,半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬。因此,DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù),半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾(Lambert-Beer)定律表述式得出,關(guān)系式表明氣體濃度越高,對(duì)光的衰減也越大。因此,可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。
痕量低濃度氮氧化物分析儀?
一臺(tái)氣體分析儀或一套氣體分析系統(tǒng)相當(dāng)于一套完整的化工工藝設(shè)備,因此,氣體分析儀器系統(tǒng)工作過(guò)程就是在實(shí)現(xiàn)一系列的化工過(guò)程。若想通過(guò)氣體分析得到準(zhǔn)確數(shù)據(jù),就必須了解這一系列化工過(guò)程中各階段的情況及變化,認(rèn)真研究并掌握其中的規(guī)律,只有這樣才能達(dá)到準(zhǔn)確測(cè)定的目的。
DLAS技術(shù)本質(zhì)上是一種光譜吸收技術(shù),通過(guò)分析激光被氣體的選擇性吸收來(lái)獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于,半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬。因此,DLAS技術(shù)是一種高分辨率的光譜吸收技術(shù),半導(dǎo)體激光穿過(guò)被測(cè)氣體的光強(qiáng)衰減可用朗伯-比爾(Lambert-Beer)定律表述式得出,關(guān)系式表明氣體濃度越高,對(duì)光的衰減也越大。因此,可通過(guò)測(cè)量氣體對(duì)激光的衰減來(lái)測(cè)量氣體的濃度。
分析儀按照光學(xué)系統(tǒng)劃分,可分為雙光路和單光路兩種:
(1)雙光路:從兩個(gè)相同光源或一個(gè)精確分配的單光源,發(fā)出兩路彼此平行的光束,分別通過(guò)分析氣室后和參比氣室后進(jìn)入檢測(cè)器。
(2)單光路:從光源發(fā)出單束紅外光,利用切光裝置將紅外光調(diào)制成不同波長(zhǎng)的光束,輪流通過(guò)分析氣室進(jìn)入檢測(cè)器。
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