光解氧化除臭設(shè)備用途：
1、各種惡臭氣體的凈化處理：例如屠宰廠、污水的廢氣處理、垃圾焚燒廠、動物養(yǎng)殖場等等，對于惡臭氣體有著很好的凈化效果。
2、適用于有機廢氣的凈化處理：像是印刷廠、化工廠、焦化廠、涂料廠、染料廠和造紙廠等。
3、同時對于餐飲行業(yè)所產(chǎn)生的油煙、以及機械制造廠在制造過程中所產(chǎn)生的廢氣的凈化都有著比較不錯的處理凈化效果。

光解氧化凈化設(shè)備

·采用高強C波段紫外線將廢氣分子簇裂解、氧化，*破壞廢氣分子團，使高濃度污染物質(zhì)分解氧化成低分子無害物質(zhì)。

·臭氧：強氧化有機氣體分子

·光觸媒粒子：*氧化有機氣體分子

·凈化處理后的有機物分解水（H2O）和二氧化碳（CO2）和低分子無臭無害化合物，在出風(fēng)口的5米內(nèi)能溫到淡淡的臭氧味，迅速溶于空氣中，轉(zhuǎn)化為氧氣。

光解氧化除臭設(shè)備 原理

一、產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。

二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。

UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對有機物具有強氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有清除效果。

三、惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，*達到脫臭及殺滅細菌的目的

UV光解除臭設(shè)備用途：
1、各種惡臭氣體的凈化處理：例如屠宰廠、污水的廢氣處理、垃圾焚燒廠、動物養(yǎng)殖場等等，對于惡臭氣體有著很好的凈化效果。
2、適用于有機廢氣的凈化處理：像是印刷廠、化工廠、焦化廠、涂料廠、染料廠和造紙廠等。
3、同時對于餐飲行業(yè)所產(chǎn)生的油煙、以及機械制造廠在制造過程中所產(chǎn)生的廢氣的凈化都有著比較不錯的處理凈化效果。

關(guān)鍵詞：除臭設(shè)備