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等離子UV光解凈化設備

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更新時間：2019-08-19 16:14:56瀏覽次數：805次

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產品簡介

產地	國產	適用面積	151㎡以上

等離子UV光解凈化設備產品采用標準型材料制造，或采用全不銹鋼材料制造，處理風量有6000～60000m3／h；

詳細介紹

等離子UV光解凈化設備簡介

UV光解凈化設備運用特殊的高能量，高臭氧紫外線紫外光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈降解為高能紫外光束照射下的低分子化合物，如CO2、 H2O等。

它改變了使用活性碳材料的工藝技術，無需再生處理原料，無需專人負責，不產生二次污染，更換及維護保養方便（可在設備正常運行情況下更換維護操作）。

低溫等離子體去除污染物的機理：

等離子體化學反應過程中，等離子體傳遞化學能量的反應過程中能量的傳遞大致如下：
(1) 電場＋電子→高能電子
(2) 高能電子＋分子(或原子)→(受激原子、受激基團、游離基團) 活性基團
(3) 活性基團＋分子(原子)→生成物+熱
(4) 活性基團＋活性基團→生成物+熱
過程一：高能電子直接轟擊
過程二：產生氧原子、臭氧、羥基自由基及小分子碎片
O2 + 2e → 2O·
O2 + O· → O3 + e
H2O + 2e → H· + HO·
H2O + O·+ e → 2HO·
H· + O2 → HO· + O
C(a+b)H(m+n)O(x+y) + 2 e → CaHmOx ·+ CbHnOy·
過程三：分子碎片氧化
CaHmOx + HO·→ CO2 + H2O
CaHmOx + O·→ CO2 + H2O
CaHmOx + O2→ CO2 + H2O
CaHmOx + O3→ CO2 + H2O
經過低溫等離子凈化后，廢氣尚含有部分小分子的物質及臭氧，采用水洗工藝可以對污染物進行進一步處理，同時減少廢氣中臭氧含量。相關反應機理如下：
H2O + e → H· + HO· + e
H· + O3 → O2 + HO·
HO· + O3 → HO2· + O2
HO2· + O3 → HO· + O2
因此在此過程中，部分小分子有機物可進一步被羥基自由基氧化而予以去除。
從以上過程可以看出，電子首先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離，從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。另外，高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質俘獲，成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性，在化學反應中起著重要的作用。