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OBLF火花發(fā)射光譜儀QSG 750-II

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產(chǎn)品介紹QSG750-II單基體或多基體模型非常適合要求盡可能低的檢測(cè)限、高的重現(xiàn)性和有關(guān)分析物的額外冶金信息的所有應(yīng)用

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

QSG 750-II單基體或多基體模型非常適合要求盡可能低的檢測(cè)限、高的重現(xiàn)性和有關(guān)分析物的額外冶金信息的所有應(yīng)用。應(yīng)用范圍從鋼鐵廠或其他冶煉廠等初級(jí)生產(chǎn)商到金屬加工公司，再到研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)。

QSG 750-II 與 QSN 750-II主要區(qū)別在于數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)，該系統(tǒng)基于 OBLF 開發(fā)的 GISS 技術(shù)（Gated Integration of Single Sparks）。在尺寸相同的情況下，它還配備了久經(jīng)考驗(yàn)的硬件組件，例如溫度穩(wěn)定的 750 毫米真空光學(xué)元件、具有可自由定義參數(shù)的門控?cái)?shù)字源 (GDS) 技術(shù)以及獲得自清潔火花架。排氣過(guò)濾器可確保清除消耗的氬氣。所有關(guān)鍵設(shè)備部件的輕松可訪問(wèn)性簡(jiǎn)化了需要由用戶執(zhí)行的服務(wù)任務(wù)。

性能特點(diǎn)