電子行業水處理設備概述

　　半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

　　2工藝簡介

　　電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

　　3工藝流程

　　1、采用離子交換方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點2、采用兩級反滲透方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透主機→PH調節→混合器→二級反滲透主機（反滲透膜表面帶正電荷）→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

　　3、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下（工藝）：自來水→電動閥→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調節系統→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點.

　　4三種工藝比較

　　制備電子工業超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面：

　　種采用傳統的離子交換樹脂其優點在于初次投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞。

　　第二種采用反滲透+離子交換設備，其特點為初次投資比采用離子交換樹脂方式要稍高，但離子再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。是比較經濟與流行的一種工藝。

　　第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子裝置，這是目前制取的的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初次投資相對以上兩種方式過于昂貴。

　　5設備特點

　　電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　6電路板用設備

　　主要應用

　　1. 大規模集成電路元器件的生產用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關用水標準(GB/T11446.1-1997)執行。

　　2. 電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據電子元件生產工藝不同，其用水標準中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(一級電導率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM)。

　　技術特征

　　制取電子級超純水

　　可連續自動生產，不必停機再生

　　出水水質優于常規離子交換法

　　不需酸堿再生，不污染環境

　　運行成本低，占地面積小

　　7應用領域

　　1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;

　　2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;

　　3、實驗室和中試車間用超純水;

　　4、汽車、家電表面拋光處理;

　　5、光電子產品;

　　6、其他高科技精微產品。