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J200FemtoiXLA激光燒蝕(LA)系統J200FemtoiX激光燒蝕(LA)儀器200FemtoiXLA儀器代表了基于世界上緊湊的臺式設計的超快激光采樣技術的新技術
J200 Femto iX LA 激光燒蝕(LA)系統
200 Femto iX LA儀器代表了基于世界上緊湊的臺式設計的超快激光采樣技術的新技術。該儀器是高度成功和久經考驗的J200 Femto LA儀器的下一步發展,J200 Femto LA儀器在世界上擁有大的安裝量。
J200 Femto iX的核心是緊湊而堅固的激光源,可從Applied Spectra獲得。J200 Femto iX具有*的硬件設計,包括智能運輸氣體控制,自動樣品高度調節,高分辨率3D樣品臺,創新的樣品池和LIBS(激光誘導擊穿光譜)附加功能,是具創新性的飛秒可以解決苛刻的LA-ICP-MS分析的LA儀器。該儀器還配有業界的數據分析軟件Clarity Femto,可進行有效的時間分辨ICP-MS信號處理,簡單的定量分析,2D / 3D元素成像和樣品取證。
Applied Spectra Inc.的J200 LA儀器與ICP-MS連接以建立品質因數。分析了NIST玻璃SRM(玻璃中的痕量元素)以確定可以檢測的質量并確定檢測限(LOD)。
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