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上海瑞氣氣體科技有限公司
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NCHa型氣體純化裝置簡潔、快速的氮氣提純方式本技術適用于簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣，以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體，加氫脫除氧雜質或者加氧脫除氫雜質，獲取高純氣體
簡潔、快速的氮氣提純方式
本技術適用于簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣，以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體，加氫脫除氧雜質或者加氧脫除氫雜質，獲取高純氣體。
高可靠性
擁有自主的*技術，采用*的節能工藝流程，配合使用自制的除氧催化劑，設備運氣更穩定，可靠，使用時間更長
程控閥門技術
*的程控閥門，結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數高達100萬次*
占地面積小 自動化控制
裝置工藝流程簡單、結構緊湊、占地面積小、較小空間需求，裝置自動化程度高，觸摸屏控制;開停機方便快捷，啟動時間短，可遠程控制設備啟停
穩定運行的有效保證
裝置運行穩定性好，可靠性高，常溫常壓下工作，性能好，正常使用、維護下13X分子篩使用時間，可達10年以上，除氧催化劑可達5年以上
可編程序控制器自動化控制
氮氣純度、流量在線監測
冷干機、過濾器自動排污；
備用氮氣自動補充、自動切換
人機界面控制系統
故障報警、自動關閉加氫電磁閥
全自動開停機
原料氣 | 氫氣 | 氨分解氫 | 產品氣 |
氧含量：0.01%～2% 壓力： 0.5MPa～1.0MPa | 純度（%）：≥99% 壓力（MPa）：≥原料氣壓力+0.05MPa
| 氧含量：≤10ppm 殘余氨：≤10ppm 壓力：≥原料氣壓力+0.05MPa | 純度：≥99.9999% 氧含量：≤1ppm 氫含量≤1000ppm（氫氣純化項目除外） CO2含量：≤1ppm 含塵粒徑：≤0.01μm 含塵量： ≤1mg/m3 常壓露點：≤-60℃ |
注： 1. 原料氣指標不在范圍內的項目，請咨詢我司定制。
2. 對產品氣氫含量≤500ppm，-60℃＜常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。
NCHa型氣體純化裝置系采用催化反應技術，利用在催化劑參與下，促進氣體中的氧氣雜質與加入的氫氣發生化學反應而生成水，實現脫除氧雜質的目的。
NCHa型氮氣純化裝置由普氮預處理系統、自動加氫系統、吸附干燥系統、電氣控制系統四大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、質量流量控制器、可編程序控制器、除氧塔、干燥塔、冷干機、熱換器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。
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