武漢安吉爾半導體精密電子行業EDI高純水設備關鍵設備及材料均采用主流*可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

電子原料生產用EDI高純水設備選安吉爾水處理設備，我公司設計的半導體精密電子行業EDI高純水設備采用成熟、可靠、*、自動化程度高的二級反滲透+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm

半導體精密電子行業EDI設備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設備的技術特點
電去離子(EDI)技術是一種將電滲析和離子交換有機結合在一起的脫鹽新工藝，英文名稱electrodeionization，縮寫EDI，該工藝過程取電滲析和離子交換兩者之長，彌補對方之短，即利用離子交換深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不*，又利用電滲析極化而發生水電離產生H+和OH－實現樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺陷。因而EDI技術是一種*的除鹽工藝。
 

半導體精密電子行業EDI設備/EDI超純水/EDI去離子水/EDI高純水設備技術的*性
*不需化學再生藥劑，生產過程無任何污染，屬清潔生產；
*不需停機再生,連續生產水質穩定的高純水(15～18MΩ·cm)；
*運行穩定可靠，維護簡單、運行費用低；
*占地面積小，節約場地建設費用。

工藝

二級反滲透制備超純水工藝流程 
預處理(砂濾器、碳濾器、軟化器) →一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置 →超純水水箱→純水泵→用水點

一級反滲透+混床制備超純水工藝流程 
預處理→一級反滲透裝置→精制混床→精密過濾器→超純水水箱→純水泵→用水點

二級反滲透+拋光混床制備超純水工藝流程 
預處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→拋光混床→精密過濾器→超純水水箱→純水泵→用水點

二級反滲透+EDI+拋光混床制備超純水工藝流程     (電阻率18MΩ.cm) 
預處理→一級反滲透裝置→中間水箱→二級反滲透裝置→EDI主機→超純水水箱→純水泵→拋光混床→超純水水箱→純水泵→用水點