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韋氏納米系統（深圳）有限公司
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橢偏儀是一種利用偏振態的變化 后光束探測樣品反應技術。不像反射儀，橢偏儀參數（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改變入射角。可以得到更多的數據集，這將有助于精煉模型，減少不確定性和提高用戶的數據信心。因此，可變角度橢偏儀比固定角度的橢偏儀系統具有更強大的功能 。目前有兩種方法改變入射角，手動或自動模式。
Ansgtrom Sun公司設計角度調整模型，通過5度間隔后精確預置槽移動手臂手動調節角度和電動精密測角0.01度分辨率兩種模型。此外，測角垂直布局設計，樣品可以水平放置，這是更安全的處理樣品時?？煽康暮妥銐虻脑紨祿?，更多膜的性能參數，如薄膜或涂層 厚度，光學常數（折射率n，消光系數k指數）、接口、孔隙度甚至成分可以通過建模。在這個意義上，*的軟件是一個必須為高性能光譜橢偏儀（SE）工具。我們開發了TFprobe 3 x版軟件的系統設置。仿真，測量，分析，數據管理和2D / 3D圖形演示的一體機。 此外，SE200工具覆蓋了很寬的波長范圍內，從深紫外線（DUV）在可見光到近紅外（250～1100nm），標準配置。DUV范圍適合衡量超薄膜，如納米厚度范圍。一個例子是在硅晶片上的原生氧化層，這是典型的2nm厚。深紫外光譜橢偏儀也是*的，用戶需要測量多種材料的帶隙。
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