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韋氏納米系統（深圳）有限公司
韋氏納米系統（深圳）有限公司
德國優尼藤專業致力于制造真空熱工藝處理設備，人性化的設計，桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學實驗室，研究所等機構廣泛應用
RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐
應用于4英寸的真空/高真空快速退火應用。
應用領域：
離子注入/接觸退火；
快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環境下使用；
SiAu, SiAl, SiMo合金化；
低介電材料；
晶體化，致密化；
太陽能電池片鍵合；
電阻燒結
其他熱工藝需求
等等...
產品特點：
- 真空快速退火爐，有RTP-100型號 低真空(10-3 hPa)
RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa)；
- 可應用在不同氣氛環境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；
- 控制方式：SPS人機界面控制，7英寸觸摸屏控制；
- 可存儲50個程序，每個程序多分為50步驟控制；
- 全自動智能控制，包括溫度、時間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動設置；
- 優異的溫控均勻性，的工藝重復性；
技術規格：
- 溫度高達：1200℃；
- 升溫速率：150℃/秒；
- 降溫速度：200℃/分鐘 (1000℃-->400℃)；
- 溫控均勻性：≤ 1.5%設定溫度；
- 加熱方式：紅外鹵素燈，頂部及底部加熱，也可單獨控制加熱
- 燈管數量及功率：18支/20KW
- 腔體冷卻：水冷方式，獨立冷卻源
- 襯底冷卻：氮氣吹掃；
- 工藝氣路：MFC控制，多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；
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