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赫爾納貿易(大連)有限公司

主營產品: PPSU接頭,PSI5接口,進口插桶泵,車門關閉速度測試儀,jutec隔熱服,hptech燃油泵,3M摩擦墊片

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王經理
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86-0411-87187730
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DCM-10芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應
芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應
參考價 100000
訂貨量 1
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 DCM-10
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 大連市

更新時間:2024-12-30 08:43:08瀏覽次數:424

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【簡單介紹】
測量范圍 0-100 Brix 測量精度 0.0006%
產地 進口 產品種類 在線
數顯功能 溫控功能
芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應,由赫爾納德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,設有8大辦事處提供相關售后服務。

芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應

芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應,由赫爾納德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗原裝產品支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,設有8大辦事處提供相關售后服務

公司簡介:

KxS Technologies 隨時幫助您滿足過程監控需求,在每個階段提供支持。從專家應用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動和生命周期支持,我們都能滿足您的需求

芬蘭KxS 化學監測儀產品型號:

DCM-10

芬蘭KxS 化學監測儀產品介紹:

KxS 原位折射率:半導體工廠化學監測的行業標準。在平衡整個晶圓廠分銷鏈中的半導體化學濃度測量的成本、速度和精度時,原位折射率已成為行業標準。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業知識,體驗化學監測過程中的精度和效率。

芬蘭KxS 化學監測儀監測范圍:

KxS 半導體 DCM-10 晶圓廠化學監測儀經過專業設計,可:

定義傳入的清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。

在用于銅、鎢和層間電介質平坦化應用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實現并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。

將濃度測量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關聯。

優化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑(例如 EKC265™)的鍍液壽命。

芬蘭KxS 化學監測儀監測種類:

我們的技術能夠監測各種關鍵半導體化學品,包括但不限于:過氧化氫 (H2O2)氫氧化銨(NH3水)稀氫氟酸(HF)磷酸 (H3PO4)鹽酸(HCl)氫氧化鈉 (NaOH)硫酸(H2SO4)N-甲基吡咯烷酮(NMP)四甲基氫氧化銨 (TMAH)異丙醇 (IPA)氫氧化鉀 (KOH)硝酸(HNO3)聚乙二醇 (PEG)檸檬酸(C6H8O7)乙酸 (CH3COOH)

芬蘭KxS 化學監測儀應用領域:

我們的半導體工廠化學監測儀非常適合各種應用,包括:

SC-1、SC-2 的化學混合校驗

使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻

使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻

使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進行鈦蝕刻

使用 HF:HNO3 混合物進行背面多晶硅蝕刻

使用各種混合物進行 CMP 后清潔

 




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