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赫爾納貿(mào)易（大連）有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： PPSU接頭,PSI5接口,進(jìn)口插桶泵,車門關(guān)閉速度測(cè)試儀,jutec隔熱服,hptech燃油泵,3M摩擦墊片 |
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公司信息
- 聯(lián)系人：
- 王經(jīng)理
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- 86-0411-87187730
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- 18804209403
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- 地址：
- 海航路9號(hào)
- 郵編：
- 個(gè)性化：
- www.heilna-gmbh.com
- 網(wǎng)址：
- www.heilna.com/
| 參考價(jià) | ￥ 100000 |
| 訂貨量 | 1件 |
- 型號(hào) DCM-10
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 所在地 大連市
更新時(shí)間：2024-12-30 08:43:08瀏覽次數(shù)：408
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| 測(cè)量范圍 | 0-100 Brix | 測(cè)量精度 | 0.0006% |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 | 產(chǎn)品種類 | 在線 |
| 數(shù)顯功能 | 無(wú) | 溫控功能 | 有 |
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀赫爾納供應(yīng)
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀赫爾納供應(yīng)，由赫爾納德國(guó)總部直接采購(gòu)，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn)，原裝產(chǎn)品，支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。
公司簡(jiǎn)介：
KxS Technologies 隨時(shí)幫助您滿足過程監(jiān)控需求，在每個(gè)階段提供支持。從專家應(yīng)用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動(dòng)和生命周期支持，我們都能滿足您的需求。
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀產(chǎn)品型號(hào)：
DCM-10
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀產(chǎn)品介紹：
KxS 原位折射率：半導(dǎo)體工廠化學(xué)監(jiān)測(cè)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。在平衡整個(gè)晶圓廠分銷鏈中的半導(dǎo)體化學(xué)濃度測(cè)量的成本、速度和精度時(shí)，原位折射率已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業(yè)知識(shí)，體驗(yàn)化學(xué)監(jiān)測(cè)過程中的精度和效率。
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀監(jiān)測(cè)范圍：
KxS 半導(dǎo)體 DCM-10 晶圓廠化學(xué)監(jiān)測(cè)儀經(jīng)過專業(yè)設(shè)計(jì)，可：
? 定義傳入的清潔化學(xué)品濃度和原始 CMP 漿料密度。
? 在用于銅、鎢和層間電介質(zhì)平坦化應(yīng)用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實(shí)現(xiàn)并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。
? 將濃度測(cè)量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關(guān)聯(lián)。
? 優(yōu)化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑（例如 EKC265™）的鍍液壽命。
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀監(jiān)測(cè)種類：
我們的技術(shù)能夠監(jiān)測(cè)各種關(guān)鍵半導(dǎo)體化學(xué)品，包括但不限于：過氧化氫 (H2O2)、氫氧化銨（NH3水）、稀氫氟酸（HF）、磷酸 (H3PO4)、鹽酸（HCl）、氫氧化鈉 (NaOH)、硫酸（H2SO4）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氫氧化銨 (TMAH)、異丙醇 (IPA)、氫氧化鉀 (KOH)、硝酸（HNO3）、聚乙二醇 (PEG)、檸檬酸（C6H8O7）、乙酸 (CH3COOH)
芬蘭KxS 化學(xué)監(jiān)測(cè)儀應(yīng)用領(lǐng)域：
我們的半導(dǎo)體工廠化學(xué)監(jiān)測(cè)儀非常適合各種應(yīng)用，包括：
? SC-1、SC-2 的化學(xué)混合校驗(yàn)
? 使用 NH3 水混合物進(jìn)行硬掩模蝕刻
? 使用 50% KOH 進(jìn)行硅濕法蝕刻
? 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進(jìn)行鈦蝕刻
? 使用 HF:HNO3 混合物進(jìn)行背面多晶硅蝕刻
? 使用各種混合物進(jìn)行 CMP 后清潔
