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赫爾納貿易(大連)有限公司
主營產品: PPSU接頭,PSI5接口,進口插桶泵,車門關閉速度測試儀,jutec隔熱服,hptech燃油泵,3M摩擦墊片 |

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18804209403
公司信息
- 聯系人:
- 王經理
- 電話:
- 86-0411-87187730
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- 18804209403
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- 地址:
- 海航路9號
- 郵編:
- 個性化:
- www.heilna-gmbh.com
- 網址:
- www.heilna.com/
參考價 | ¥ 100000 |
訂貨量 | 1件 |
- 型號 DCM-10
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質 經銷商
- 所在地 大連市
更新時間:2024-12-30 08:43:08瀏覽次數:424
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芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應
芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應,由赫爾納德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,設有8大辦事處提供相關售后服務。
公司簡介:
KxS Technologies 隨時幫助您滿足過程監控需求,在每個階段提供支持。從專家應用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動和生命周期支持,我們都能滿足您的需求。
芬蘭KxS 化學監測儀產品型號:
DCM-10
芬蘭KxS 化學監測儀產品介紹:
KxS 原位折射率:半導體工廠化學監測的行業標準。在平衡整個晶圓廠分銷鏈中的半導體化學濃度測量的成本、速度和精度時,原位折射率已成為行業標準。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業知識,體驗化學監測過程中的精度和效率。
芬蘭KxS 化學監測儀監測范圍:
KxS 半導體 DCM-10 晶圓廠化學監測儀經過專業設計,可:
? 定義傳入的清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。
? 在用于銅、鎢和層間電介質平坦化應用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實現并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。
? 將濃度測量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關聯。
? 優化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑(例如 EKC265™)的鍍液壽命。
芬蘭KxS 化學監測儀監測種類:
我們的技術能夠監測各種關鍵半導體化學品,包括但不限于:過氧化氫 (H2O2)、氫氧化銨(NH3水)、稀氫氟酸(HF)、磷酸 (H3PO4)、鹽酸(HCl)、氫氧化鈉 (NaOH)、硫酸(H2SO4)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、四甲基氫氧化銨 (TMAH)、異丙醇 (IPA)、氫氧化鉀 (KOH)、硝酸(HNO3)、聚乙二醇 (PEG)、檸檬酸(C6H8O7)、乙酸 (CH3COOH)
芬蘭KxS 化學監測儀應用領域:
我們的半導體工廠化學監測儀非常適合各種應用,包括:
? SC-1、SC-2 的化學混合校驗
? 使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻
? 使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻
? 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進行鈦蝕刻
? 使用 HF:HNO3 混合物進行背面多晶硅蝕刻
? 使用各種混合物進行 CMP 后清潔