工業超純水設備系統采用多介質過濾器、活性炭過濾器作及保安過濾器作為前級處理，有效除去原水中的懸浮物、泥砂、微粒、有機硅膠體、有機物、異味、余氯等雜質，使經過離子交換處理后的水質符合工業生產要求。在經過后端進行精處理系統(混床系統)，使其產水水質滿足生產用水的要求。

       電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水設備系統,如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色。含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

       目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

       EDI超純水設備系統作為制取超純水的設備，作為反滲透設備后的二次除鹽設備，可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業，半導體工業，發電工業，制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水，以及其它應用高純水。

半導體行業超純水設備系統應用領域
       1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。
       2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水。
       3、實驗室和中試車間用超純水。
       4、汽車、家電表面拋光處理。
       5、光電子產品。
       6、其他高科技精微產品。

半導體行業超純水設備系統制作工藝
       為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、EDI超純水系統等。

       1、介質過濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質及機械雜質設備由優質不銹鋼材料制作而成。體內裝有布水帽、精制石英砂等，亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統，使系統的產水水質更加穩定。另外設備還設有氣體沖刷功能，能大限度地清除介質上及床層中的污垢，提高出水水質和延長工作周期。

       2、活性碳過濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機物雜質等作用，能大程度的去除水中的游離余氯，保證反滲透膜的進水水質，設備由優質不銹鋼材料制成。

       3、RO主機系統引進上*的反滲透技術，利用壓力差原理，能有效地去除水中的鹽類，脫鹽率可達到99%左右。