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硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號GMD2000

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地上海市

更新時間:2018-05-08 11:57:15瀏覽次數:676次

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硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機,高剪切研磨分散機,超高速剪切研磨分散,SGN研磨分散機是迄今為止在流體研磨分散領域*的一款設備。GMD2000型研磨分散機轉速Z高可達14000rpm,線速度Z高可達44m/s,設備采用膠體磨與分散均質乳化機合二為一的方式,使GM2000型設備即研磨、剪切、分散、均質、乳化等諸多功能。目前SGN研磨分散機在流體研磨分散領域有著極其廣泛的應用。

           硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機

硝基咪唑類眼膏制作流程及功效

 

硝基咪唑類眼膏的原料組成包括活性成分、眼膏基質和輔料,所述活性成分為甲硝唑或替硝唑,所述輔料為載體、乳化劑、常用眼用藥物抑菌劑等中的至少一種;按質量百分比,所述活性成分、眼膏基質和輔料分別為0.5%~3%,95%~99%,0~5%。將無水羊毛脂和白凡士林加熱融化后過濾,再干燥滅菌;將液體石蠟干燥滅菌;將甲硝唑或替硝唑粉末置于研缽中,加入部分經干燥滅菌的液體石蠟,研成細膩糊狀,再加入部分滅菌的其余眼膏基質,研勻,再逐次加入剩余的眼膏基質和/或其他輔料,邊加邊研勻,使成全量,無菌分裝即得硝基咪唑類眼膏??捎糜谥委燆x性瞼緣炎以及眼表面病變。

詢價和技術問題請來電:李 ()   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導。

硝基咪唑類眼膏高剪切研磨分散機簡介

,高剪切研磨分散機,超高速剪切研磨分散,SGN研磨分散機是迄今為止在流體研磨分散領域*的一款設備。GMD2000型研磨分散機轉速zui高可達14000rpm,線速度zui高可達44m/s,設備采用膠體磨與分散均質乳化機合二為一的方式,使GM2000型設備即研磨、剪切、分散、均質、乳化等諸多功能。目前SGN研磨分散機在流體研磨分散領域有著極其廣泛的應用。

 

是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

 

一般來說要強于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨分散機機是由研磨機分散機組合而成的高產品科技。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

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GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

 

研磨分散機的應用

化學工業:油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦研磨分散,炭黑等。
日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫藥工業:各型糖漿、營養液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮等。
建筑工業:各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業:塑料工業、紡織工業、造紙工業、煤炭浮選劑、納米材料等行業優質環保的生產需要

 

研磨分散機的型號研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

 

 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

研磨分散機,實驗室研磨分散機

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