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光氫離子凈裝置是利用高強度的寬頻光子波發生管和特殊高分子材料制作的光催化媒介,產生離子、電子、低濃度氧離子、過氧化氫、羥自由基以及大量的負離子。
一、技術原理:
光氫離子凈裝置是利用高強度的寬頻光子波發生管和特殊高分子材料制作的光催化媒介,產生離子、電子、低濃度氧離子、過氧化氫、羥自由基以及大量的負離子。
1. 利用O3(臭氧)的強氧化性
光氫離子催化氧化設備是利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。*臭氧具有*的氧化性,主要利用185nm紫外線持續和O2結合產生臭氧來分解有機廢氣。2.“七種催化涂層技術”加強了-C波段紫外線照射數倍;增加了-C波段光段的反射,使-C波反射再次利用;次涂層材料屬于惰性材質,在-C波段紫外線的照射下揮發催化劑進行廢氣再次催化。*去除廢氣中有毒、有害、有味氣體。
3.臭氧在該光量子的作用下可產生大量的新生態氫、活性氧和羥基氧等活性基團,一部分惡臭物質也能與活性基團反應,zui終轉化為CO2和H2O等無害物質,從而達到*去除惡臭氣體的目的。當控制反應條件,可以實現一般情況下難以實現或使速度很慢的化學反應變得十分快速,大大提高了反應器的作用效率。
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