低溫等離子惡臭治理設(shè)備廠家原理：

廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng)，去處粉塵且通過化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理，具體包括填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。

低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有*的碰吸單元，截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì)，廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過等離子活性氧凈化裝置，在高壓等離子電場(chǎng)的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。

吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的。控制系統(tǒng)主要用來控制系統(tǒng)開機(jī)、停運(yùn)，并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè)，反饋系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)和技術(shù)參數(shù)，從而使設(shè)備處于運(yùn)行狀態(tài)，實(shí)現(xiàn)無人值守。

低溫等離子惡臭治理設(shè)備廠家簡(jiǎn)介：

低溫等離子冶煉除臭設(shè)備在電催化總的設(shè)計(jì)概念下，分三個(gè)即獨(dú)立又混成的激發(fā)系統(tǒng)：微波激發(fā)區(qū)、等離子激發(fā)區(qū)、極板激發(fā)區(qū)。每個(gè)激發(fā)區(qū)有它特定的功能，但在原理上有它相似的地方。

工藝流程：

氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。