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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

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更新時間：2022-05-03 10:23:48瀏覽次數：447次

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上海添時科學儀器有限公司

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產品簡介

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度。此設備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和PTFE薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

詳細介紹

技術參數

結構
輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵)
濺射電源	安裝有兩個濺射電源直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭	儀器中安裝有2個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,大厚度1.5mm 陶瓷靶：直徑為50mm,大厚度6mm 儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環水冷機）也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
載樣臺	載樣臺尺寸：140mm dia.（大可放置4"的基底）載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調）載樣臺高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內部安裝有2個質量流量計量程為：0-200sccm 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
真空泵系統	配有一套分子泵系統（德國制作），采用一鍵式操作
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據
外形尺寸	L1300mm× W660mm× H1200mm
重量	160 kg
質保期	一年質保期，終生維護