詳細介紹
光氧廢氣裝置(一重破壞、分解,三重催化氧化)
破壞
采用高能C波段(僅次于切割不銹鋼的激光,強于氬弧焊光源的數十倍強度)在設備內,強裂解惡臭物質分子鏈,改變物質結構,將高分子污染物質,裂解、氧化成為低分子無害物質,如水和二氧化碳等。
催化氧化
1、o3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化,可有效地殺滅細菌,將有毒有害物質破壞且改變成為低分子無害物質。
2、催化劑涂層,在C波段激光刺激它產生活性,強化催化氧化作用。
3、在分解過程中產生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2-O3(臭氧),*臭氧對有機物具有*的氧化作用,對惡臭氣體及其它剌激性異味有*的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化,裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,*達到脫臭及殺滅菌的目的。