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新興光電材料的生產(chǎn)、加工和清潔；LCD顯示屏、PDP等離子顯示器、高品質(zhì)光管顯像管、微電子工業(yè)、線路板、集成電路、半導(dǎo)體等需要大量高純度水來清洗，半導(dǎo)體對(duì)水質(zhì)的要求很高，這對(duì)半導(dǎo)體超純水設(shè)備的簡(jiǎn)單性、自動(dòng)化、連續(xù)性和可持續(xù)性提出了更嚴(yán)格的要求。

用于清洗半導(dǎo)體產(chǎn)品的超純水設(shè)備采用雙級(jí)RO+EDI+混床超純水處理工藝，確保處理后的超純水出水水質(zhì)電阻率達(dá)到18.2 5MΩ.cm，核心部件采用品牌，PLC+觸摸屏控制，整個(gè)系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。

半導(dǎo)體超純水設(shè)備在半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗中的應(yīng)用：

1、半導(dǎo)體材料和晶體材料的生產(chǎn)、加工和清潔

2、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

3、電解電容器生產(chǎn)中鋁箔和工作部件的清潔

4、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)用純水和成分

5、集成電路生產(chǎn)中的高純水清洗硅片

6、晶體管在生產(chǎn)中主要用于清潔硅片，少量用于液體藥物制備

7、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂層碳酸鹽溶液制備

為了滿足用戶的需求，實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)水質(zhì)，限度地減少各級(jí)污染，延長(zhǎng)半導(dǎo)體超純水設(shè)備的使用壽命，減少操作員的維護(hù)工作量，在材料選擇中，采用了國內(nèi)外品牌，與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

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