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大腸桿菌細胞破碎后的液體中含蛋白質40-70%，核酸10-30%，多糖2-10%，脂類10-15%。該液體之所以顯黏性是由細胞破碎后核酸釋放出來造成的。可以加入DNase來消化掉核酸污染。
IKN管線式高剪切研磨分散機是由IKN研發工程師于2013年新研發的一款用于物料精細研磨，分散，乳化，均質的高精度設備，高剪切研磨分散機結合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質乳化機的高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
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CMD2000系列研磨分散機的結構：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
CMD2000系列研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
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