光催化氧化除臭設備無需惡臭氣體進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及藥劑參與處理，光催化氧化除臭設備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護，只需要作定期檢查維護，維護和能耗成本低，風阻極低，設備在運行過程中，會瞬間產生大量的強刺激性UV光線，嚴禁人員眼睛或皮膚鐘暴露在光源中，需在有安全防護措施的情況下視察。
光催化氧化除臭設備特點：
1、性：光催化氧化除臭設備能去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達99%，遠超過惡臭污染物排放標(GB14554-93)。
2、無需預處理：光催化氧化除臭設備惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，除臭設備工作環境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在30%-98%、PH指在3-11之間均可正常工作。
3、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過光催化廢氣處理設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。
4、運行成本低：光催化除臭設備去任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需定期檢查，本設備能耗低，(每處理廢氣風量為1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能)，設備風阻極低<100pa。
5、光解作用：UV-C紫外線C波段(254nm)光束輻射小顆粒分子(由氨基酸組成的蛋白質分子，由脂肪酸組成的脂肪分子，由糖組成的淀粉分子，還有維生素分子、礦物質分子)將油脂分子鏈切斷，改變油脂的分子結構揮發性有機物易受UV-C的攻擊。
6、氧化作用：UV-C紫外線C波段(185nm)在工作時與空氣中的氧氣反應生成臭氧。臭氧是一種強氧化劑，對氣體中的醇類、酯類、酮類、醛類、醚類、苯類等分子*氧化分解成如水蒸氣和二氧化碳等無害的化合物。臭氧和OH同有機化合物反應并改變它們。
光催化氧化除臭設備維護時要注意的事項：
、必須認真執行各項規章制度
要嚴格遵守上述規程外,還應有一套適合自己實際情況的運行管理制度,如崗位責任制度,交接班制度,檢測制度,設備維護、檢修制度,健康檢查制度,質量檢驗制度和經濟核算制度等.
第二、一定要嚴格遵守廢氣處理工藝技術規程、安全規程和崗位操作規程,這些規程是組織生產與進行操作的基本法規,是從生產和科研實踐中總結出來的規律性的東西.嚴格遵守這些法規是日常運行中重要的一條原則.
第三、務必要強調各工種的相互配合,生產中往往因廢氣處理設備輔助工作發生錯誤而影響生產的正常運行,如分析的錯誤將引起加料量和物料成分的改變;儀表的指示錯誤會欺騙操作人員,使得實際操作條件大大偏離工藝規程的要求.電器故障和設備故障也會引起生產的不正常.
光催化氧化除臭設備的使用范圍是很廣泛的，可以在污水處理站，垃圾場處理廠等等很多場合中使用。它因為性能好，所以具有很廣泛的使用范圍。它在運行的時候，非常穩定，具有很高的可靠性。
