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臨沂光催化氧化報價低的廠家,臨沂廢氣處理排名
光催化機理光催化氧化(非均相)是以n型半導體(作催化劑的氧化過程。當 催化劑受到紫外光照射時,表面的價帶電子(e-)就會被激發到導帶,同時在 價帶產生空穴(h),形成電子空穴對(h-e-)。
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光催化機理光催化氧化(非均相)是以n型半導體(作催化劑的氧化過程。當 催化劑受到紫外光照射時,表面的價帶電子(e-)就會被激發到導帶,同時在 價帶產生空穴(h),形成電子空穴對(h-e-)。這些電子和空穴遷移到粒子表 面后,由于空穴有很強的氧化能力,使水在半導體表面形成氧化能力*的 qiang基自由基(·OH),qiang基自由基再與水中有機污染物發生氧化反應,zui終生 成CO2、H2O及無機鹽等物質。
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光催化氧化技術利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所 用光主要為紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工藝,可以用于處理污水中 CHCl3、CCl4、多氯聯苯等難降解物質。另外,在有紫外光的Fenton體系 中,紫外光與鐵離子之間存在著協同效應,使H2O2分解產生qiang基自由基的 速率大大加快,促進有機物的氧化去除。
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