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北京哲勤科技有限公司
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美國IST（ Integrated Surface Technologies）公司 具有權的 Repellix 原子層沉積表面改性設備，使用ALD原子層沉積的方法，在分子級水平改善材料表面性質，可使材料具有親水（提高表面能）、疏水（降低表面能）、超疏水、防水防油、生物兼容性能，且持續時間長。
此設備廣泛應用于MEMS、納米壓印、微流控、生命科學、電子產品等領域。
美國ist(integrated surface technologies)公司 repellix 原子沉積表面改性(親水、超疏水、防水設備）
——美國ist公司為pva tepla的戰略合作公司
型號：rpx-210, rpx-540, rpx-560
典型應用:
表面改性（微流控芯片管道表面改性）
mems表面抗粘合層（提高mems器件的抗摩擦性）
半導體制造和封裝涂層
dna微陣列
生物兼容性改性
親水 μ流體薄膜
疏水保護薄膜（）
提高表面粘附性
無機氧化物原子沉積
控制：
pc精密控制，形成單分子層，可設置連續或交替進行。
靈活的控制系統，允許自行設計工藝，形成特色納米結構。
同一設備更換不同單體可完成不同工藝。
優勢：
靈活的工藝步驟
自然沉積，均勻性*
重復性好
低成本
適用大批量生產
配置：
腔體大小：317.5×243.84×254 mm
運行真空度：10 torr（100℃）
腔室溫度：85℃
設備大小：1016×965.2×914.4 mm
回充氣體：n2 或cda (5.5 bar)
pc控制
多達32,000可編程步驟
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