為掃描儀系統和小型環境的清理提供的二層保護。 如果需要額外的保護或沒有空氣處理系統，則可以化學凈化環境空氣。E2000 預過濾器外殼和空氣循環系統是我們市場的 OEM 掃描儀集成過濾器系統的自然延伸。 E2000 系統增強了對空氣中低分子量硅 (LMWSi) 和可冷凝有機物的鏡片污染的保護。它滿足 Nikon、ASML 和 Canon photobay 環境規范并延長 OEM 掃描儀過濾器有機物的使用壽命。作為獨立系統使用，E2000 系統可以通過再循環空氣和去除導致腐蝕和工藝問題的空氣污染物來清潔設施。
選擇吸附化學物質以大限度地提高目標 AMC（空氣中的分子污染物）的容量
匹配現有的 OEM 掃描儀過濾系統
用于過濾小型設施的緊湊型獨立解決方案
適用于所有應用的輕松改造
符合 Nikon、ASML 和 Canon 環境規范
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