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四方光電(武漢)儀器有限公司
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原位激光過程氣體分析儀

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號GasTDL-3100

品       牌四方儀器

廠商性質生產商

所  在  地武漢市

更新時間:2025-02-26 09:28:14瀏覽次數:2272次

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上市時間:
2021-3-1
創  新 點:
1、采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾
  2、原位安裝,無需采樣預處理系統
  3、響應快速(T90≤4s),可實時反應氣體濃度
  4、實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高
  5、在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環境下具有良好的適應性
  6、隔爆防爆設計,安全系數高
  7、構造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護
產地 國產 儀器原理 其他原理
儀器種類 在線式
原位激光(氧)氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。

原位激光過程氣體分析儀


原位激光過程氣體分析儀

原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調諧半導體激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀器,采用對射式設計,可用于工業過程氣體控制;其響應時間快速,在原位式測量中一般以秒計算,避免采樣式測量帶來的時間延遲,可在線及時的反應被測氣體濃度。


    

產品特性

1、采用TDLAS技術,被測氣體不受背景氣體交叉干擾

2、原位安裝,無需采樣預處理系統

3、響應快速(T90≤1s),可實時反應氣體濃度

4、實時在線測量,氣體濃度不易失真,測量精度高

5、在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環境下具有良好的適應性

6、隔爆防爆設計,安全系數高

7、構造簡潔,無可動元件,無損耗元件,免維護


技術參數


性能參數
測量組份O2、CO、CO2、CH4*
測量原理TDLAS
測試范圍O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100'%)

CO:(0 ~ 100)%VOL

CO2:(0 ~ 100)%VOL

CH4:(0 ~ 20)%VOL

精度≤±1%F.S.
重復性≤±1%F.S.
量程漂移≤±1%F.S.
分辨率0.01%VOL
響應時間T90≤1s
工作參數
防爆等級Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db
安裝方式原位安裝
環境溫度 (-20~ +60)℃
工作電源24V DC,24W
吹掃氣體(0.3~ 0.8)MPa工業氮氣
接口信號
通訊RS485、RS232
輸出模式2路4-20mA輸出

3路繼電器輸出

*注釋:每套分析儀測量單一組分氣體濃度








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