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光學材料生產用超純水設備 概述:光學材料生產用超純水設備包括四個流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進行水基清洗的。
光學材料生產用超純水設備概述:
光學材料生產用超純水設備包括四個流程:洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗,所以有不同的工藝:有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗;也有行溶劑清洗,再用乳化劑溶解溶劑,再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
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