10-30萬級潔凈凈化工程發(fā)展應降低成本提高競爭力
10-30萬級潔凈凈化工程的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。10-30萬級潔凈凈化工程具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產*濕度范圍為35-45%。
10-30萬級潔凈凈化工程氣壓規(guī)定
對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內部的壓力(靜壓)高于外部的壓力(靜壓)。壓力差的維持一般應符合以下原則:
1.10-30萬級潔凈凈化工程的壓力要高于非潔凈空間的壓力。
2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。
壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。
10-30萬級潔凈凈化工程中的氣流速度規(guī)定
這里要討論的氣流速度是指潔凈室內的氣流速度，10-30萬級潔凈凈化工程在其他潔凈空間中的氣流速度在討論具體設備時再說明。
對于10-30萬級潔凈凈化工程由于主主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過對室內氣流速度也有如下要求;
(1)送風口出口氣流速度不宜太大，和單純空調房間相比，要求速度衰減更快，擴散角度更大。
(2)吹過水平面的氣流速度(例如側送時回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返氣流，而造成再污染，這一速度一般不宜大干0.2m/s。
對于平行流10-30萬級潔凈凈化工程《習慣上稱層流潔凈室)，由于主要靠氣流的"活塞打擠壓作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指標。過去都參考美國20gB標準，采用0.45m/s.但人們也都了解到這樣大速度所需要的通風量是極大的，為了節(jié)能，也都在探求降低風速的可行性。
在我國，《空氣潔凈技術措施》和(潔凈廠房設計規(guī)范)都是這樣規(guī)定的
垂直平行流(層流)潔凈室≥0.25m/s
水平平行流(層流)潔凈室≥0.35 m/s
這是指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成的照明，其中一般照明的照度按《潔凈廠房設計規(guī)范》應占總照度的10%-15%，但不低干150LX。 單位被照面積上接受的光通量即是照明單位勒克斯(LX)。
國外10-30萬級潔凈凈化工程的強度要求*，例如美國關于10-30萬級潔凈凈化工程的幾個標準的要求是.
人工光300lx有較好的效果，當工件精細程度更高時，500x也是允許的。對于要紅燈照明的地方，如電子行業(yè)的光刻車間，其照度一般為(25-501x)，
用天然光時可允許更高的照度，因而對工作是有利的，所以今后10-30萬級潔凈凈化工程的照明既采用人工光也采用天然光可能是有前途的，這也是為了節(jié)能而出現(xiàn)的一種動向。
