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德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應離子刻蝕機---上海/蘇州/北京/廣州

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更新時間：2018-05-01 16:06:38瀏覽次數：1262次

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蘇州諾威特測控科技有限公司

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產品簡介

儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發領域。

詳細介紹

德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應離子刻蝕機---上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州

SENTECH儀器（德國）有限公司研發、制造和銷售*的薄膜測量儀器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測量儀器（在線和離線測量工具）和等離子工藝設備（等離子刻蝕機、等離子沉積系統、原子層沉積系統、用戶定制多腔系統）。

儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發領域。

NOVTEC寓意“科技創新"，即諾威特測控科技有限公司，在德國、日本設有代表處，多年來致力于將世界的高科技產品帶給中國及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供完善的售后服務，協助他們提高生產技術水平、競爭力及增加盈利，專業從事工業測量與測試產品的銷售與研發，擁有產品研發中心、研究院和生產工廠，技術力量雄厚。

產品簡介

SI 500為研發和小批量生產應用提供*的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設計特點,可實現范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

SI 500C低溫ICP刻蝕機，可在-100℃左右的低溫下實現深硅刻蝕。優點是刻蝕后形成非常光滑的側壁，尤其在光學應用上非常重要。同時低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實現刻穿樣片。

SI 591 采用模塊化設計、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應腔系統、或帶預真空室或片盒站的多腔系統。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩定性和重復性。

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