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美國 OAI INSTRUMENTS光刻機

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所  在  地天津市

更新時間:2019-08-27 14:48:04瀏覽次數:507次

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美國 OAI INSTRUMENTS光刻機
,OAI是在同行業中的*者超過35年。OAI光功率計以其測量精度,重復性著稱,測量數據符合美國NIST標準,廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。

 

     天津賽力斯自動化科技有限公司經銷美國OAI INSTRUMENTS曝光機、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTSOAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀。

 

     OAI INSTRUMENTS是業內生產可靠并精密設備的MEMS,半導體,納米技術,潔凈室自動化和紫外線光測量的優秀制造商。OAI系統可同時用于研發和生產半導體,MEMS和微流體裝置。從光罩對準和UV光源UV電力儀表,OAI是在同行業中的*者超過35年。OAI光功率計以其測量精度,重復性著稱,測量數據符合美國NIST標準,廣泛應用于半導體光刻能量測量及控制。

 

產品范圍:

美國OAI INSTRUMENTS曝光機、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTSOAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀

 

主要型號:

Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459

 

美國OAI INSTRUMENTS Model 800半自動光刻機簡介:

光刻方式:接近式,軟,硬,真空接觸式

曝光距離:0-3000μm

間隙調節步進:1um

機械精度:1.5um

光刻精度:軟接觸2um,硬接觸小于1um

 

美國OAI INSTRUMENTS Model 6000全自動光刻機技術規格:

光刻方式:接近式,軟,硬,真空接觸式

基底尺寸:2-12寸晶圓或者大200mm方形

曝光分辨率:

真空接觸:0.5-0.8um

硬接觸:0.8-1.0um

軟接觸:1.0-3.0um

接近式(20um 間隙):3.0um

曝光均勻性:優于±3%

對準精度:頂面0.5um,底面1.0um(選件)

產量:180片/小時大

 

我們的宗旨:信義為根,嚴謹為本,凝心聚力,行思行遠

我們的管理:張弛有度,目標*

我們的團隊:專業高效,隊堅勢盛

我們的服務:掌握市場動態,傾聽客戶需求

我們的價格:同等質量比價格,同等價格比質量,同質同價比服務

 

 

 

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